[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 201710637585.1 | 申请日: | 2017-07-28 |
公开(公告)号: | CN107219694B | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
发明(设计)人: | 范昊翔;李哲;栗鹏;李晓吉;顾可可;刘文亮;秦鹏;卢俊宏;朱维 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343;G02F1/1362;H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置,能够在不增加阵列基板中面状电极和狭缝电极之间的存储电容的基础上,提高面状电极和狭缝电极之间的电场利用率;该阵列基板,包括设置于衬底基板上位于每个亚像素中的狭缝电极和面状电极,且面状电极位于狭缝电极靠近衬底基板的一侧,狭缝电极包括多个条状子电极,在亚像素中,狭缝电极和面状电极之间设置有绝缘层,绝缘层背离衬底基板的表面在至少一组相邻条状子电极之间设置有凹槽。 | ||
搜索关键词: | 一种 阵列 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】:
一种阵列基板,包括设置于衬底基板上位于每个亚像素中的狭缝电极和面状电极,且所述面状电极位于所述狭缝电极靠近所述衬底基板的一侧,所述狭缝电极包括多个条状子电极,其特征在于,在所述亚像素中,所述狭缝电极和所述面状电极之间设置有绝缘层,所述绝缘层背离所述衬底基板的表面在至少一组相邻条状子电极之间设置有凹槽。
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