[发明专利]TFT基板的制作方法及TFT基板

摘要

本发明提供一种TFT基板的制作方法及TFT基板。该TFT基板的制作方法在制作色阻层时，使多个色阻单元暴露出TFT层中的栅极线及TFT，且在相邻的第一色阻单元之间设置第一色阻块，在相邻的第二色阻单元之间设置尺寸小于第一色阻块的第二色阻块，在相邻两行色阻单元之间设置覆盖第一色阻块及第二色阻块并覆盖栅极线及TFT的第三色阻条，由于第一色阻块与第二色阻块尺寸的差异，使第三色阻条位于第一色阻块上的部分的高度大于位于第二色阻块上的部分的高度，从而利用一单色调光罩即可形成包括覆盖栅极线及TFT的第一遮光区、分别位于第一、第二色阻块上高度不同的主、辅助隔垫物的BPS遮光层，降低制作BPS遮光层的材料的开发难度，增强色阻层的抗剥落性。

主权项

1.一种TFT基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：/n步骤S1、提供衬底基板(100)，在所述衬底基板(100)上形成TFT层(200)；/n所述TFT层(200)包括平行间隔排列的多行栅极线(220)、平行间隔排列的多列数据线(230)、及阵列排布的多个TFT(210)；/n步骤S2、在所述TFT层(200)上形成平坦化层(300)；/n步骤S3、在所述平坦化层(300)上形成色阻层(400)；/n所述色阻层(400)包括：交替排列的多列第一色阻单元(410)、多列第二色阻单元(420)及多列第三色阻单元(430)、位于相邻的第一色阻单元(410)之间的第一色阻块(411)、位于相邻的第二色阻单元(420)之间的第二色阻块(421)、以及于第一色阻块(411)及第二色阻块(421)上覆盖相邻两行色阻单元之间区域的第三色阻条(431)，多个色阻单元暴露出栅极线(220)及TFT(210)所在区域，第一色阻块(411)的尺寸大于第二色阻块(421)的尺寸；/n步骤S4、在色阻层(400)上形成钝化层(500)，在钝化层(500)上形成像素电极(600)；/n步骤S5、在钝化层(500)及像素电极(600)上涂布BPS遮光材料，采用一道单色调光罩对所述BPS遮光材料进行图案化形成BPS遮光层(700)；/n所述BPS遮光层(700)包括：覆盖栅极线(220)及TFT(210)所在区域的第一遮光区(710)、对应位于第一色阻块(411)上方的主隔垫物(720)、及对应位于第二色阻块(421)上方的辅助隔垫物(730)；/n所述第一色阻单元(410)及第一色阻块(411)的材料为红色色阻材料，所述第二色阻单元(420)及第二色阻块(421)的材料为绿色色阻材料，所述第三色阻单元(430)及第三色阻条(431)的材料为蓝色色阻材料；/n所述第一色阻块(411)及所述第二色阻块(421)均位于栅极线(220)及TFT(210)所在区域上方，所述第三色阻条(431)覆盖栅极线(220)及TFT(210)所在区域。/n