[发明专利]TFT基板的制作方法及TFT基板

权利要求书

1.一种TFT基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1、提供衬底基板(100)，在所述衬底基板(100)上形成TFT层(200)；

所述TFT层(200)包括平行间隔排列的多行栅极线(220)、平行间隔排列的多列数据线(230)、及阵列排布的多个TFT(210)；

步骤S2、在所述TFT层(200)上形成平坦化层(300)；

步骤S3、在所述平坦化层(300)上形成色阻层(400)；

所述色阻层(400)包括：交替排列的多列第一色阻单元(410)、多列第二色阻单元(420)及多列第三色阻单元(430)、位于相邻的第一色阻单元(410)之间的第一色阻块(411)、位于相邻的第二色阻单元(420)之间的第二色阻块(421)、以及于第一色阻块(411)及第二色阻块(421)上覆盖相邻两行色阻单元之间区域的第三色阻条(431)，多个色阻单元暴露出栅极线(220)及TFT(210)所在区域，第一色阻块(411)的尺寸大于第二色阻块(421)的尺寸；

步骤S4、在色阻层(400)上形成钝化层(500)，在钝化层(500)上形成像素电极(600)；

步骤S5、在钝化层(500)及像素电极(600)上涂布BPS遮光材料，采用一道单色调光罩对所述BPS遮光材料进行图案化形成BPS遮光层(700)；

所述BPS遮光层(700)包括：覆盖栅极线(220)及TFT(210)所在区域的第一遮光区(710)、对应位于第一色阻块(411)上方的主隔垫物(720)、及对应位于第二色阻块(421)上方的辅助隔垫物(730)；

所述第一色阻单元(410)及第一色阻块(411)的材料为红色色阻材料，所述第二色阻单元(420)及第二色阻块(421)的材料为绿色色阻材料，所述第三色阻单元(430)及第三色阻条(431)的材料为蓝色色阻材料；

所述第一色阻块(411)及所述第二色阻块(421)均位于栅极线(220)及TFT(210)所在区域上方，所述第三色阻条(431)覆盖栅极线(220)及TFT(210)所在区域。

2.如权利要求1所述的TFT基板的制作方法，其特征在于，所述步骤S3具体为：首先，在平坦化层(300)上涂布红色色阻材料并对其进行图案化，形成多个第一色阻单元(410)及第一色阻块(411)，接着，在平坦化层(300)上涂布绿色色阻材料并对其进行图案化，形成多个第二色阻单元(420)及第二色阻块(421)，最后，在平坦化层(300)、第一色阻块(411)、及第二色阻块(421)上涂布蓝色色阻材料并对其进行图案化，形成多个第三色阻单元(430)及第三色阻条(431)，从而形成色阻层(400)。

3.如权利要求1所述的TFT基板的制作方法，其特征在于，所述步骤S4中，在形成像素电极(600)之前还对应TFT(210)形成贯穿钝化层(500)、色阻层(400)及平坦化层(300)的过孔(510)，所述像素电极(600)经过孔(510)与TFT(210)接触。

4.如权利要求3所述的TFT基板的制作方法，其特征在于，所述TFT(210)包括：设于衬底基板(100)上的栅极(211)、覆盖栅极(211)的栅极绝缘层(212)、设于栅极(211)上方的栅极绝缘层(212)上的有源层(213)、及分别与有源层(213)两端接触的源极(214)及漏极(215)，所述过孔(510)暴露所述漏极(215)，所述像素电极(600)经过孔(510)与漏极(215)接触。

5.如权利要求1所述的TFT基板的制作方法，其特征在于，所述BPS遮光层(700)还包括覆盖数据线(230)的第二遮光区(740)。