[发明专利]薄膜晶体管和阵列基板的制备方法

摘要

本发明公开了一种薄膜晶体管和阵列基板的制备方法。本发明薄膜晶体管和阵列基板制备方法如下制备有源层的步骤：在薄膜晶体管所含的栅绝缘层外表面采用溶液法形成无机有源前驱体层，后对所述无机有源前驱体层进行退火处理形成无机有源层；至少重复依次以溶液法形成无机有源前驱体层和退火处理为周期的步骤。本发明薄膜晶体管制备方法结合溶液法采用分步多次制备有源层，从而有效减少有源层因溶液蒸发等因素产生的缺陷，提高有源层特别是与靠近栅极一端有效沟道层的致密性，从而提高了薄膜晶体管中载流子的迁移率，减少制备的薄膜晶体管的阈值电压漂移，从而提高制备的薄膜晶体管电学性能。

主权项

1.一种薄膜晶体管的制备方法，包括如下制备有源层的步骤：在薄膜晶体管所含的栅绝缘层外表面采用溶液法形成无机有源前驱体层，后对所述无机有源前驱体层进行退火处理形成无机有源层；在所述无机有源层外表面至少依次重复进行一次所述采用溶液法形成无机有源前驱体层和对所述无机有源前驱体层进行退火处理的步骤。