[发明专利]用于检测红外线辐射的盖革模式雪崩光电二极管阵列有效

专利信息
申请号: 201710193662.9 申请日: 2017-03-28
公开(公告)号: CN107665886B 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: M·C·马兹罗;P·法利卡;S·洛姆巴多 申请(专利权)人: 意法半导体股份有限公司;国家研究委员会
主分类号: H01L25/075 分类号: H01L25/075;H01L33/54;H01L33/58
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华
地址: 意大利阿格*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了用于检测红外线辐射的盖革模式雪崩光电二极管阵列。一种盖革模式雪崩光电二极管阵列形成在裸片中并且包括:内部电介质结构,该内部电介质结构被安排在该裸片上;以及外部电介质区域,该外部电介质区域被安排在该内部电介质结构上。该外部电介质区域由外部材料形成,该外部材料吸收波长落入低波长阻带中的辐射并且透射波长落入高波长通带中的辐射,该通带的至少一部分包括红外线中的波长。该内部电介质结构由一个或多个内部材料形成,该一个或多个内部材料实质上透射波长落入该阻带和该通带中的辐射,并且具有落入幅度为0.4的区间内的折射率。在该阻带和该通带中,该外部电介质区域的折射率具有落入上述区间内的实部。
搜索关键词: 用于 检测 红外线 辐射 模式 雪崩 光电二极管 阵列
【主权项】:
一种盖革模式雪崩光电二极管阵列,所述阵列形成在裸片(100)中并且包括封装结构(160,162,164),所述封装结构包括:‑内部电介质结构(160,162),所述内部电介质结构被安排在所述裸片上,与其直接接触,并且叠置在所述光电二极管(1)上;以及‑外部电介质区域(164),所述外部电介质区域被安排在所述内部电介质结构上,与其直接接触;并且其中,所述外部电介质区域由外部材料形成,所述外部材料吸收波长落入低波长阻带中的辐射并且透射波长落入高波长通带中的辐射,所述通带的至少一部分包括红外线中的波长;并且其中,所述内部电介质结构由一个或多个内部材料形成,所述一个或多个内部材料实质上透射波长落入所述阻带和所述通带中的辐射,并且具有落入宽度为0.4的区间内的折射率;并且其中,在所述阻带和所述通带中,所述外部电介质区域的折射率具有落入所述区间内的实部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于意法半导体股份有限公司;国家研究委员会,未经意法半导体股份有限公司;国家研究委员会许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710193662.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top