[发明专利]用于半导体制造的陶瓷基座的公共端子加热器

摘要

本发明涉及用于半导体制造的陶瓷基座的公共端子加热器。提供用有多个加热区且用两个电源之间共享的公共端子控制加热区的反应器处理衬底的系统和方法。反应器包括支撑衬底的加热器组件和供应工艺气体到反应器中的喷头。内和外加热器集成在加热器组件中。内电源具有连接到内加热器的第一端的正极端子和连接到内加热器的耦合到公共端子的第二端的负极端子。外电源具有连接到外加热器的第一端的正极端子和连接到外加热器的耦合到公共端子的第二端的负极端子。公共端子加热器模块配置为接收靠近内加热器的测量温度。接收期望温度设置并处理伺服控制规则以识别内电源的内电压的直接控制设置和外电源的外电压的开环控制设置。外电压定义为内电压的比率。

主权项

一种用于处理衬底的系统，其包括：反应器，其包括用于支撑所述衬底的加热器组件，所述反应器被配置为接收工艺气体；集成在所述加热器组件中的内加热器；集成在所述加热器组件中的外加热器，所述外加热器布置成围绕所述内加热器；内电源，其具有连接到所述内加热器的第一端的正极端子和连接到所述内加热器的耦合到公共端子的第二端的负极端子；外电源，其具有连接到所述外加热器的第一端的正极端子和连接到所述外加热器的耦合到所述公共端子的第二端的负极端子；和公共端子加热器模块，其被配置为接收接近所述内加热器的测量温度，所述公共端子加热器模块被配置为接收期望温度设置，并且处理伺服控制规则以识别所述内电源的内电压的直接控制设置和所述外电源的外电压的开环控制设置，其中所述外电压被定义为所述内电压的比率。