[发明专利]显示基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201710001269.5 申请日: 2017-01-03
公开(公告)号: CN106711151B 公开(公告)日: 2019-09-06
发明(设计)人: 宫奎;尹洋植;李纪龙;董必良 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;刘伟
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及显示技术领域,公开了一种显示基板及其制作方法、显示装置。所述制作方法在通过光刻工艺在绝缘层中形成过孔时,未剥离剩余的光刻胶,并通过镀膜工艺在所述光刻胶上和过孔中形成导电镀膜,然后剥离光刻胶,同时去除光刻胶上的导电镀膜,形成导电镀膜的图形。由于镀膜工艺制得的导电镀膜能够附着在过孔的整个侧壁和底部,不会发生断层,可以在过孔中形成导电性良好的电性连接结构。当位于绝缘层两侧的导电结构通过绝缘层中的过孔电性连接时,位于过孔中的电性连接结构能够可靠电连接导电结构,克服存在底切不良的过孔造成的电性不良问题,提高产品良率。
搜索关键词: 显示 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
1.一种显示基板的制作方法,包括:形成一绝缘层;在所述绝缘层上形成光刻胶,对所述光刻胶进行曝光显影,形成光刻胶保留区域和光刻胶不保留区域;去除所述光刻胶不保留的绝缘层,形成一过孔;剥离剩余的光刻胶,其特征在于,在剥离剩余的光刻胶之前,所述制作方法还包括:通过镀膜工艺在所述光刻胶上和过孔中形成一导电镀膜;所述剥离剩余的光刻胶的工艺同时去除光刻胶上的导电镀膜,形成所述导电镀膜的图形,所述导电镀膜包括位于所述过孔的侧壁的第一导电镀膜和位于所述过孔的底部第二导电镀膜,所述第一导电镀膜和第二导电镀膜为一体结构,形成一电性连接结构;所述绝缘层包括过渡层、主体层和顶层,其中,所述主体层位于所述过渡层与所述顶层之间,所述过渡层位于所述主体层之下;所述过孔的侧壁包括第一侧壁和第二侧壁,其中,所述第一侧壁位于所述主体层和所述顶层之中,所述第二侧壁位于过渡层之中;所述方法还包括:制作透明导电膜,所述透明导电膜包括位于所述顶层之上和所述第一侧壁之上的第一透明导电膜,以及位于所述过孔底部的第二透明导电膜,所述第一透明导电膜与所述第二透明导电膜之间在所述第二侧壁处具有断层,所述第一透明导电膜与所述第二透明导电膜通过所述电性连接结构电性连接。
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