[发明专利]光学膜用组合物、具有光学膜的基材、成形体及成形体的制造方法在审
| 申请号： | 201680002308.7 | 申请日： | 2016-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN106796307A | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 堀贤哉;井上博文;柴田信彦;竹内秀树;杉本诚志 | 申请（专利权）人： | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/111 | 分类号： | G02B1/111;B32B27/20;C08K7/26;C08L101/00;G02B1/18 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 周欣,陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 光学膜用的组合物包含二氧化硅系中空微粒、基质前体、不挥发性液体和挥发性溶剂。不挥发性液体的25℃下的蒸气压为500Pa以下，不挥发性液体的沸点为250℃以上。挥发性溶剂具有比不挥发性液体高的挥发性。不挥发性液体的含量相对于二氧化硅系中空微粒及基质前体成分的合计质量100质量份为0.1质量份以上且30质量份以下。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 组合 具有 基材 成形 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学膜用的组合物，其包含：二氧化硅系中空微粒、基质前体、25℃下的蒸气压为500Pa以下、并且沸点为250℃以上的不挥发性液体、和具有比所述不挥发性液体高的挥发性的挥发性溶剂，所述不挥发性液体的含量相对于所述二氧化硅系中空微粒及所述基质前体的合计质量100质量份为0.1质量份以上且30质量份以下。
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