[发明专利]光学膜用组合物、具有光学膜的基材、成形体及成形体的制造方法在审
| 申请号： | 201680002308.7 | 申请日： | 2016-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN106796307A | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 堀贤哉;井上博文;柴田信彦;竹内秀树;杉本诚志 | 申请（专利权）人： | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/111 | 分类号： | G02B1/111;B32B27/20;C08K7/26;C08L101/00;G02B1/18 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 周欣,陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 组合 具有 基材 成形 制造 方法 | ||
1.一种光学膜用的组合物，其包含：
二氧化硅系中空微粒、
基质前体、
25℃下的蒸气压为500Pa以下、并且沸点为250℃以上的不挥发性液体、和
具有比所述不挥发性液体高的挥发性的挥发性溶剂，
所述不挥发性液体的含量相对于所述二氧化硅系中空微粒及所述基质前体的合计质量100质量份为0.1质量份以上且30质量份以下。
2.根据权利要求1所述的光学膜用的组合物，其中，
所述不挥发性液体为液体石蜡、氟化合物、硅酮化合物及醚化合物中的至少1者。
3.根据权利要求1、2中任一项所述的光学膜用的组合物，其中，
23℃下的所述不挥发性液体的粘度为1Pa·s以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学膜用的组合物，其中，
所述基质前体为热固性树脂。
5.一种基材，其具备：
基材层、和
设置于所述基材层的一个表面上的光学膜，
所述光学膜包含：
二氧化硅系中空微粒、
基质、和
25℃下的蒸气压为500Pa以下、并且沸点为250℃以上的不挥发性液体，
所述不挥发性液体的含量相对于所述二氧化硅系中空微粒及所述基质的合计质量100质量份为0.1质量份以上且30质量份以下。
6.根据权利要求5所述的基材，其中，
所述不挥发性液体为液体石蜡、氟化合物、硅酮化合物及醚化合物中的至少1者。
7.根据权利要求5、6中任一项所述的基材，其中，
23℃下的所述不挥发性液体的粘度为1Pa·s以下。
8.根据权利要求5～7中任一项所述的基材，其中，
所述基质为热固性树脂的固化物。
9.根据权利要求5～8中任一项所述的基材，其中，
所述二氧化硅系中空微粒与所述基质的合计折射率为1.3以上且1.49以下，
所述不挥发性液体的折射率与所述二氧化硅系中空微粒和所述基质的合计折射率的差为0.08以下。
10.一种成形体，其具备：
成形本体部、和
将所述成形本体部的表面的至少一部分覆盖的权利要求5所述的基材，
所述成形本体部与所述基材一体地成形。
11.根据权利要求10所述的成形体，其中，
所述不挥发性液体为液体石蜡、氟化合物、硅酮化合物及醚化合物中的至少1者。
12.根据权利要求10、11中任一项所述的成形体，其中，
23℃下的所述不挥发性液体的粘度为1Pa·s以下。
13.根据权利要求10～12中任一项所述的成形体，其中，
所述基质为热固性树脂的固化物。
14.根据权利要求10～13中任一项所述的成形体，其中，
所述二氧化硅系中空微粒与所述基质的合计折射率为1.3以上且1.49以下，
所述不挥发性液体的折射率与所述二氧化硅系中空微粒和所述基质的合计折射率的差为0.08以下。
15.一种成形体的制造方法，其具备以下步骤：
在基体的一个表面涂布光学膜用的组合物的步骤，所述组合物包含二氧化硅系中空微粒、基质前体、25℃下的蒸气压为500Pa以下且沸点为250℃以上的不挥发性液体、和具有比所述不挥发性液体高的挥发性的挥发性溶剂，所述不挥发性液体的含量相对于所述二氧化硅系中空微粒及所述基质前体的合计质量100质量份为0.1质量份以上且30质量份以下；
使所述挥发性溶剂干燥而在所述基体的表面形成干燥膜的步骤；
将形成有所述干燥膜的所述基体按照所述干燥膜与树脂成形用的模相接的方式配置在所述模中的步骤；和
与所述基体中没有形成所述干燥膜的表面相接地将树脂成形而制作成形本体部的步骤，
在所述干燥膜中所述基质前体没有完全固化，在将所述树脂成形时使所述基质前体完全固化，从而在所述成形本体部的表面形成具有光学膜的基材。
16.根据权利要求15所述的成形体的制造方法，其中，
所述基质前体为热固性树脂。
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