[发明专利]蚀刻液和使用其的蚀刻方法和使用该蚀刻方法得到的基板有效
| 申请号： | 201610619512.5 | 申请日： | 2016-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN106400017B | 公开（公告）日： | 2019-07-09 |
| 发明（设计）人： | 山田洋三;本望圭纮;后藤敏之 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/26 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供：用于蚀刻层叠于基板上的多层薄膜的蚀刻液，所述基板使用选自玻璃、二氧化硅和氮化硅中的1种以上，所述多层薄膜包含以铜为主要成分的铜层和以钛为主要成分的钛层；和使用其的包含铜层和钛层的多层薄膜的蚀刻方法；以及使用该蚀刻方法得到的基板。一种蚀刻液，其为包含如下成分的水溶液且pH值为1.5～2.5：(A)过氧化氢的浓度为4.5～7.5质量％；(B)硝酸的浓度为0.8～6质量％；(C)氟化合物的浓度为0.2～0.5质量％；(D)唑类的浓度为0.14～0.3质量％；(E)特定的胺化合物的浓度为0.4～10质量％；和(F)过氧化氢稳定剂的浓度为0.005～0.1质量％。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 基板 多层薄膜 蚀刻液 铜层 钛层 过氧化氢稳定剂 过氧化氢的 胺化合物 二氧化硅 氟化合物 氮化硅 硝酸 唑类 玻璃 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻液，其为用于蚀刻层叠于基板上的多层薄膜的蚀刻液，所述基板使用选自玻璃、二氧化硅和氮化硅中的1种以上，所述多层薄膜包含以铜为主要成分的铜层和以钛为主要成分的钛层，所述蚀刻液为包含如下成分的水溶液且pH值为1.5～2.5：(A)过氧化氢的浓度为4.5～7.5质量％；(B)硝酸的浓度为0.8～6质量％；(C)氟化合物的浓度为0.2～0.5质量％；(D)唑类的浓度为0.14～0.3质量％；(E)胺化合物的浓度为0.4～10质量％，所述胺化合物为选自具有1个以上任选被甲氧基所取代的直链状或支链状的碳数2～5的烷基的烷胺(E1)、具有1个或2个直链状或支链状的碳数2～5的羟基烷基、且任意具有1个或2个直链状或支链状的碳数2～5的烷基的链烷醇胺(E2)、具有直链状或支链状的碳数2～5的亚烷基的二胺(E3)、和环己胺(E4)中的1种以上；和(F)过氧化氢稳定剂的浓度为0.005～0.1质量％，其中，在该蚀刻液中添加铜4000ppm和钛360ppm、且于50℃保存2小时时的该蚀刻液中的过氧化氢的稳定性为0.075％/小时以下。
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