[发明专利]半导体装置及半导体装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 201510147871.0 申请日: 2015-03-31
公开(公告)号: CN105428340A 公开(公告)日: 2016-03-23
发明(设计)人: 细美英一 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L25/00 分类号: H01L25/00;H01L23/498;H01L23/48;H01L23/488;H01L21/60
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐殿军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 根据实施方式,提供一种具有第1半导体芯片和第2半导体芯片的半导体装置。第2半导体芯片搭载在第1半导体芯片的背面。第1半导体芯片具有基板、背面布线、多层布线、贯通电极和表面电极。背面布线设在基板的背面上。背面布线电连接着第2半导体芯片的端子。多层布线设在基板的表面上。贯通电极经由基板将背面布线及多层布线电连接。表面电极设在多层布线之上。表面电极电连接在多层布线上。
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,具备:第1半导体芯片;以及第2半导体芯片,搭载在上述第1半导体芯片的背面;上述第1半导体芯片具有:基板;背面布线,设在上述基板的背面,电连接着上述第2半导体芯片的端子;多层布线,设在上述基板的表面;贯通电极,经由上述基板将上述背面布线及上述多层布线电连接;以及表面电极,设在上述多层布线之上,电连接于上述多层布线。
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