[发明专利]808nm平顶光场大功率激光器有效

专利信息
申请号: 201510055185.0 申请日: 2015-02-03
公开(公告)号: CN104600562B 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: 宁吉丰;陈宏泰;车相辉;王彦照;林琳;位永平;王晶 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
主分类号: H01S5/323 分类号: H01S5/323;H01S5/20
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所13120 代理人: 米文智
地址: 050051 *** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明公开了一种808nm平顶光场大功率激光器,涉及半导体激光器技术领域;包括衬底以及在衬底上从下至上依次生长的缓冲层、下限制层、下光场作用层、下波导层、量子阱层、上波导层、上光场作用层、上限制层和电极接触层,所述下光场作用层采用高掺杂的N型AlGaAs材料,上光场作用层采用高掺杂的P型AlGaAs材料。本发明快轴光场顶部分布均匀,能够进一步降低有源区光功率密度,提高激光器的可靠性和耐用性。
搜索关键词: 808 nm 平顶 大功率 激光器
【主权项】:
一种808nm平顶光场大功率激光器,包括衬底(1)以及在衬底(1)上从下至上依次生长的缓冲层(2)、下限制层(3)、下光场作用层(4)、下波导层(5)、量子阱层(6)、上波导层(7)、上光场作用层(8)、上限制层(9)和电极接触层(10),其特征在于所述下光场作用层(4)采用高掺杂的N型AlGaAs材料,上光场作用层(8)采用高掺杂的P型AlGaAs材料;所述下光场作用层(4)和上光场作用层(8)的折射率高于所述衬底(1)、所述缓冲层(2)、所述下限制层(3)、所述下波导层(5)、所述量子阱层(6)、所述上波导层(7)、所述上限制层(9)和所述电极接触层(10)的折射率。
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  • 尧舜;高祥宇;王智勇;邱运涛;贾冠男;吕朝蕙;雷宇鑫 - 北京工业大学
  • 2014-12-11 - 2015-02-25 - H01S5/323
  • 本发明提供一种白光半导体激光器,其包括:蓝宝石衬底、缓冲层、三个外延生长层、波长合束器;所述蓝宝石衬底为基板,依次覆上所述缓冲层和所述三个外延生长层;所述三个外延生长层作为有源区,激射出的三种波长的光;所述波长合束器将所述三种波长的光合束形成白光。本发明可以同时发射出三种不同波长光的激光器,在此基础上可通过波长合束的技术将三种不同波长的光束进行合束,使以蓝宝石为基底的白光半导体激光器的应用范围更广泛。
  • 一种增强P型接触层半导体激光器-201320830608.8
  • 不公告发明人 - 渭南高新区晨星专利技术咨询有限公司
  • 2013-12-15 - 2014-06-25 - H01S5/323
  • 一种增强P型接触层半导体激光器,其特征在于:所述半导体激光器顺序地包括以下层级:蓝宝石衬底;厚度为40-55纳米的低温GaN缓冲层;厚度为1-2微米的N型接触层;厚度为80-90纳米的N型光波导层;厚度为4-5纳米的有源GaInN层;厚度为22-25纳米的P型AlGaN电子阻挡层;厚度为80-90纳米的P型光波导层;厚度大于500纳米的包覆层;第一P型GaN层,第二P型GaN层,其中所述第一和第二P型GaN层的总厚度为300-450纳米,并且所述第二P型GaN层具有低于所述第一P型GaN层的N掺杂浓度以及大于所述第一P型GaN层的厚度。该半导体激光器发射出的激光远场具有更小发散角。
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