[发明专利]一种倒装LED芯片及其制备方法在审
申请号: | 201410835818.5 | 申请日: | 2014-12-30 |
公开(公告)号: | CN105810672A | 公开(公告)日: | 2016-07-27 |
发明(设计)人: | 彭翔;赵汉民;梁伏波;金力;傅建华;汤松龄 | 申请(专利权)人: | 晶能光电(江西)有限公司 |
主分类号: | H01L25/075 | 分类号: | H01L25/075;H01L33/48;H01L33/62 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 330096 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本发明提供一种倒装LED芯片的制备方法,该方法包括在蓝宝石衬底上依次形成N型GaN层、多量子阱层、P型GaN层、金属反射层、金属保护层和PN电极焊盘。本发明所述倒装LED芯片的制备方法即采用了打孔技术,又采用了电流扩展技术,制备出等Pad倒装LED芯片。该芯片N电极焊盘与P电极焊盘之间具有较大的间距,为下游封装工艺提供了较大的工艺窗口,降低了封装过程中虚焊造成灯珠的失效率,从而节约了成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 倒装 led 芯片 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种倒装LED芯片的制备方法,其特征在于,该方法包括:在蓝宝石衬底上从下至上依次生长N型GaN层、多量子阱层和P型GaN层;在所述P型GaN层上形成金属反射层;在所述金属反射层上沉积一层金属保护层;在所述金属保护层表面部分区域刻蚀至暴露出N型GaN层形成N电极孔和N电极槽;在所述N电极孔和N电极槽内沉积N型欧姆接触金属层;在所述金属保护层表面、N电极孔和N电极槽的侧壁形成钝化层,刻蚀钝化层部分区域,暴露出N型欧姆接触金属层和部分金属保护层;将N电极孔和N电极槽连接起来形成N电极焊盘;在未被钝化层覆盖的金属保护层上形成与N电极焊盘大小相同且轴对称的P电极焊盘。
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