[发明专利]线圈衬底及其制造方法、以及电感器有效
申请号: | 201410374209.4 | 申请日: | 2014-07-31 |
公开(公告)号: | CN104347599B | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 中村敦;佐藤清和 | 申请(专利权)人: | 新光电气工业株式会社 |
主分类号: | H01L23/64 | 分类号: | H01L23/64;H01L21/50 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 陈源;李铭 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供了包括多个结构体的线圈衬底及其制造方法、以及电感器,其中每个结构体包含第一绝缘层、形成在第一绝缘层上并且被配置作为螺旋线圈的一部分的布线、以及形成在所述第一绝缘层上并且被配置为覆盖所述布线的第二绝缘层。所述多个结构体通过粘合层堆叠。通过将所述多个结构体当中的相邻结构体的所述布线串联连接来形成所述螺旋线圈。 | ||
搜索关键词: | 线圈 衬底 及其 制造 方法 以及 电感器 | ||
【主权项】:
1.一种线圈衬底,包括:多个结构体,其中每个结构体均包括第一绝缘层、形成在所述第一绝缘层上并且被配置作为螺旋线圈的一部分的布线、以及形成在所述第一绝缘层上并且被配置为覆盖所述布线的第二绝缘层;其中所述多个结构体通过粘合层堆叠;其中通过将所述多个结构体当中的相邻结构体的所述布线串联连接来形成所述螺旋线圈;其中所述多个结构体包括作为底层的底层结构体;并且其中所述多个结构体中除了所述底层结构体以外的结构体中的每一个结构体具有穿透该结构体的第一绝缘层、布线以及第二绝缘层的开口部分,该开口部分被过孔布线填充,该结构体的布线通过该过孔布线串联连接至位于该结构体下方的相邻结构体的布线。
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