[发明专利]发光二极管及其制作方法有效
申请号: | 201410246124.8 | 申请日: | 2014-06-05 |
公开(公告)号: | CN103985799B | 公开(公告)日: | 2017-03-22 |
发明(设计)人: | 刘志彬;舒立明;刘明英;张东炎;王良均;王笃祥 | 申请(专利权)人: | 天津三安光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/26;H01L33/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300384 天津市*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种发光二极管及其制作方法,依次包括衬底、缓冲层、n型导电层、发光区和p型导电层。所述发光区为多量子阱结构,其中至少一个量子阱结构包括Ⅲ族氮化物的阱层以及在阱层上的基于Ⅲ族氮化物的垒层,所述垒层包含至少一第一SiNx插入层。所述SiNx插入层可以有效减少垒层中的应力,使得生长发光区后的表面较平整,减少缺陷,提高载流子的复合效率。 | ||
搜索关键词: | 发光二极管 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
发光二极管,依次包括衬底、缓冲层、n型导电层、发光区和p型导电层,其特征在于:所述发光区为多量子阱结构,其中至少一个量子阱结构包括:Ⅲ族氮化物的阱层以及在阱层上的基于Ⅲ族氮化物的垒层,所述垒层包含至少一第一SiNx插入层,所述第一SiNx插入层在所述垒层内形成离散的晶体结构。
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