[发明专利]一种阵列基板及其制备方法和显示装置有效

专利信息
申请号: 201310705330.6 申请日: 2013-12-19
公开(公告)号: CN103700668A 公开(公告)日: 2014-04-02
发明(设计)人: 姜清华;李小和;李红敏;吴翟;董职福 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362;G02F1/1368
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 李迪
地址: 230012 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种阵列基板及其制备方法和显示装置,其中阵列基板包括:玻璃基板,在像素显示区域玻璃基板的上方从下向上依次是完全覆盖玻璃基板的公共电极层和绝缘层,不完全绝缘层的栅电极,完全覆盖栅电极的栅绝缘层,栅绝缘层上方设置有源层以及在数据线层上形成位于栅电极两侧的源电极和漏电极。本发明中的阵列基板改变现有制作工艺步骤,首先在玻璃基板上制作一层透明导电薄膜和绝缘层经过一次构图工艺得到公共电层和绝缘层,之后再继续制作栅绝缘层和有源层,在制作过程中只需要四次构图工艺就能形成ADS型阵列基板,比传统技术少一次曝光工艺,提高设备产能,节约成本。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制备 方法 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板,其特征在于,包括:玻璃基板(0),在像素显示区域玻璃基板(0)的上方从下向上依次是完全覆盖玻璃基板(0)的公共电极层(1)和绝缘层(2),不完全绝缘层(2)的栅电极(3),完全覆盖栅电极(3)的栅绝缘层(4),栅绝缘层(4)上方设置有源层(5)以及在数据线层上形成位于栅电极(3)两侧的源电极(6)和漏电极(7)。
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