[发明专利]化学机械研磨装置有效
| 申请号： | 201310179100.0 | 申请日： | 2013-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN103419123B | 公开（公告）日： | 2018-02-09 |
| 发明（设计）人： | 石井游;伊藤贤也;高桥正三;铃木美加 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号： | B24B37/22 | 分类号： | B24B37/22;B24B37/24;B24B37/34;B24B37/04 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所31210 | 代理人： | 梅高强,刘煜 |
| 地址： | 日本国东京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种研磨垫，能对具有由平面和曲面组合而成的表面形状的工件实施镜面加工。研磨垫(3)安装在可旋转的研磨台(4)上。工件(W)保持在托架(1)上，并被按压在研磨垫(3)上。研磨垫(3)具有具有用于研磨工件(W)的研磨面的弹性垫(31)；支承弹性垫(31)的变形自如的基层(32)；以及将弹性垫(31)与基层(32)接合的粘接层(33)。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 工件 化学 机械 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种化学机械研磨装置，其特征在于，具有：对研磨垫进行支承的可旋转的研磨台；将多个工件按压到所述研磨垫上的托架；使所述托架绕该托架的轴心旋转的旋转机构；以及将研磨液供给到所述研磨垫上的研磨液供给机构，所述托架具有使所述工件摆动的多个摆动机构，所述多个摆动机构的每一个具有：对所述工件进行保持的工件保持部；转动促动器，所述转动促动器与所述工件保持部连接，并且在使所述工件与所述研磨垫接触的状态下，该转动促动器使所述工件保持部绕规定的回旋轴线以规定角度摆动。
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- 本实用新型涉及一种研磨工件用研磨垫及化学机械研磨装置。一种研磨垫，能对具有由平面和曲面组合而成的表面形状的工件实施镜面加工。研磨垫(3)安装在可旋转的研磨台(4)上。工件(W)保持在托架(1)上，并被按压在研磨垫(3)上。研磨垫(3)具有：具有用于研磨工件(W)的研磨面的弹性垫(31)；支承弹性垫(31)的变形自如的基层(32)；以及将弹性垫(31)与基层(32)接合的粘接层(33)。
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- D·斯特林;J·W·图雷 - 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
- 2009-10-15 - 2013-09-11 - B24B37/22
- 本发明提供了一种具有密封窗口的化学机械抛光垫，所述抛光垫包含具有抛光表面、平行于所述抛光表面的抛光层界面区域和外周边的抛光层；具有底表面、平行于底表面的多孔子垫层界面区域和外周边的多孔子垫层；压敏粘合剂层；以及透光性窗口元件。本发明还提供了制备这种多层化学机械抛光垫和将其用于抛光基材的方法。
- 一种双镶嵌层无蜡研磨抛光模板-201210094461.0
- 高如山 - 天津西美科技有限公司
- 2012-03-31 - 2012-07-18 - B24B37/22
- 本发明涉及一种双镶嵌层无蜡研磨抛光模板，其特征在于：所述双镶嵌层无蜡研磨抛光模板是由五个圆柱状的层状物组成的复合结构，所述复合结构由上到下依次为：第一层是上镶嵌层，所述上镶嵌层上设有至少一个置片孔；第二层是上粘接层；第三层是衬底层；第四层是下粘接层；第五层是下镶嵌层，所述下镶嵌层上设有至少一个置片孔，所述双镶嵌层无蜡研磨抛光模板设有渗透抛光液用的导流孔，所述导流孔的直径范围是0.1mm～50mm。本发明无蜡研磨抛光模板采用双镶嵌层，提高了无蜡抛光的效率；通过将无蜡抛光垫与吸附垫分离，有效减小了硅片成品的厚度偏差，有效降低了生产成本；同时具有结构简单，加工方便的特点。
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