[发明专利]半导体装置无效

专利信息
申请号: 201310068994.6 申请日: 2013-03-05
公开(公告)号: CN103579311A 公开(公告)日: 2014-02-12
发明(设计)人: 小林仁 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L29/36 分类号: H01L29/36;H01L29/423;H01L29/78
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 杨谦;房永峰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的半导体装置具备在第1方向上延伸的半导体部、控制电极和第1电极。控制电极在与第1方向正交的第2方向上与半导体部分离设置。半导体部包含第1导电型的第1半导体区域、第2导电型的第2半导体区域、第1导电型的第3半导体区域和第2导电型的第4半导体区域。第1半导体区域具有第1导电型。第2半导体区域设在第1半导体区域之上并与控制电极相对。第3半导体区域设在第2半导体区域之上,杂质浓度比第1半导体区域高。第4半导体区域与第3半导体区域并排,杂质浓度比第2半导体区域高。第1电极与第3半导体区域以及第4半导体区域导通。第4半导体区域偏向设置于半导体部的与控制电极相反的一侧。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
一种半导体装置,具备:在第1方向上延伸的半导体部;在与上述第1方向正交的第2方向上与上述半导体部分离设置的控制电极;以及第1电极,上述半导体部包含:第1导电型的第1半导体区域;第2导电型的第2半导体区域,设置在上述第1半导体区域之上,隔着绝缘膜而与上述控制电极相对;第1导电型的第3半导体区域,设置在上述第2半导体区域之上,具有比上述第1半导体区域的杂质浓度高的杂质浓度;以及第2导电型的第4半导体区域,与上述第3半导体区域并排,具有比上述第2半导体区域的杂质浓度高的杂质浓度,上述第1电极在上述半导体部的上端与上述第3半导体区域及上述第4半导体区域导通;上述第4半导体区域偏向设置于上述半导体部的与上述控制电极相反一侧。
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