[发明专利]半导体装置无效
申请号: | 201310068994.6 | 申请日: | 2013-03-05 |
公开(公告)号: | CN103579311A | 公开(公告)日: | 2014-02-12 |
发明(设计)人: | 小林仁 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L29/36 | 分类号: | H01L29/36;H01L29/423;H01L29/78 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 杨谦;房永峰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的半导体装置具备在第1方向上延伸的半导体部、控制电极和第1电极。控制电极在与第1方向正交的第2方向上与半导体部分离设置。半导体部包含第1导电型的第1半导体区域、第2导电型的第2半导体区域、第1导电型的第3半导体区域和第2导电型的第4半导体区域。第1半导体区域具有第1导电型。第2半导体区域设在第1半导体区域之上并与控制电极相对。第3半导体区域设在第2半导体区域之上,杂质浓度比第1半导体区域高。第4半导体区域与第3半导体区域并排,杂质浓度比第2半导体区域高。第1电极与第3半导体区域以及第4半导体区域导通。第4半导体区域偏向设置于半导体部的与控制电极相反的一侧。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种半导体装置,具备:在第1方向上延伸的半导体部;在与上述第1方向正交的第2方向上与上述半导体部分离设置的控制电极;以及第1电极,上述半导体部包含:第1导电型的第1半导体区域;第2导电型的第2半导体区域,设置在上述第1半导体区域之上,隔着绝缘膜而与上述控制电极相对;第1导电型的第3半导体区域,设置在上述第2半导体区域之上,具有比上述第1半导体区域的杂质浓度高的杂质浓度;以及第2导电型的第4半导体区域,与上述第3半导体区域并排,具有比上述第2半导体区域的杂质浓度高的杂质浓度,上述第1电极在上述半导体部的上端与上述第3半导体区域及上述第4半导体区域导通;上述第4半导体区域偏向设置于上述半导体部的与上述控制电极相反一侧。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310068994.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:多重栅晶体管及其制造方法
- 下一篇:在沟槽中包括电介质结构的半导体器件
- 同类专利
- 专利分类