[发明专利]一种阵列基板及其制作方法和显示装置有效

专利信息
申请号: 201310030815.X 申请日: 2013-01-25
公开(公告)号: CN103117283A 公开(公告)日: 2013-05-22
发明(设计)人: 王本莲;栗晓;代磊;韩静;杨永菊;蔡科 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G09F9/33
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明的实施例提供一种阵列基板及其制作方法和显示装置,涉及显示技术领域,在既能保证开口率又不增加制作成本的基础上,实现了窄边框技术。该阵列基板包括:基板;位于基板上的栅极、栅线和位于栅线之间的第一栅线引线;覆盖栅极、栅线和第一栅线引线的栅绝缘层;位于栅绝缘层上方的有源层、源极、漏极和数据线;覆盖有源层、源极、漏极和数据线的钝化层;栅线将与栅线交叉的第一栅线引线隔开;第一栅线引线包括信号传输区域和位于信号传输区域两端的连接区域,其中信号传输区域与数据线平行且位于数据线下方,连接区域位于数据线区域的一侧。本发明应用于显示器制造。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板,包括:基板;位于所述基板上的栅极、栅线和位于所述栅线之间的第一栅线引线;覆盖所述栅极、栅线和所述第一栅线引线的栅绝缘层;位于所述栅绝缘层上方的有源层、源极、漏极和数据线;覆盖所述有源层、源极、漏极和数据线的钝化层;位于所述钝化层上方的像素电极图形,所述像素电极图形通过钝化层上的过孔与所述漏极导通;其特征在于,还包括:所述栅线将与所述栅线交叉排列的第一栅线引线隔开;所述第一栅线引线包括信号传输区域和位于所述信号传输区域两端的连接区域,其中所述信号传输区域与所述数据线平行且位于所述数据线下方,所述连接区域位于所述数据线区域的一侧;被所述栅线隔开的两段所述第一栅线引线相邻的连接区域被与所述像素电极图形同层形成的第二栅线引线通过过孔导通,所述过孔在所述钝化层和所述栅绝缘层上;所述栅线通过所述栅线与所述栅线对应的第一栅线引线交叉处上方所述栅绝缘层和钝化层上的过孔与所述第二栅线引线导通,其中所述第二栅线引线与所述第一栅线引线导通构成栅线引线与对应的栅线导通。
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