[发明专利]沉积设备和利用其制造有机发光二极管显示器的方法有效
| 申请号： | 201310018087.0 | 申请日： | 2013-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN103451625B | 公开（公告）日： | 2017-04-12 |
| 发明（设计）人： | 任子贤;李宽熙;尹智焕;沈重元;成泰光 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/52;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人： | 韩芳,张川绪 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种沉积设备和利用所述沉积设备制造有机发光二极管显示器的方法。所述沉积设备包括沉积源，包括沿着第一方向线性布置并且排放沉积材料的喷嘴；一对角度控制构件，设置在沉积源的两侧并且控制沉积材料的排放方向角。每个角度控制构件包括平行于第一方向的旋转轴以及围绕旋转轴安装并且围绕旋转轴彼此分开预定间隔的多个屏蔽板。尽管沉积角根据工艺时间的增加而改变，但是补偿沉积角以形成均匀的薄膜。另外，可以通过有机发光二极管(OLED)显示器的每个像素均匀地沉积有机薄膜，从而增加每个像素的亮度均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 设备 利用 制造 有机 发光二极管 显示器 方法 | ||
【主权项】：
一种沉积设备，所述沉积设备包括：沉积源，包括沿着第一方向线性布置并且排放沉积材料的喷嘴；一对角度控制构件，设置在沉积源的两侧并且控制沉积材料的排放方向角，每个角度控制构件包括平行于第一方向的旋转轴以及围绕旋转轴安装并且围绕旋转轴彼此分开预定间隔的多个屏蔽板。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
