[发明专利]沉积设备和利用其制造有机发光二极管显示器的方法

权利要求书

1.一种沉积设备，所述沉积设备包括：

沉积源，包括沿着第一方向线性布置并且排放沉积材料的喷嘴；

一对角度控制构件，设置在沉积源的两侧并且控制沉积材料的排放方向角，

每个角度控制构件包括平行于第一方向的旋转轴以及围绕旋转轴安装并且围绕旋转轴彼此分开预定间隔的多个屏蔽板。

2.根据权利要求1所述的沉积设备，所述多个屏蔽板形成相等的中心角。

3.根据权利要求1所述的沉积设备，所述沉积设备还包括旋转所述旋转轴的旋转驱动器。

4.根据权利要求3所述的沉积设备，所述沉积设备还包括控制旋转驱动器以周期性地旋转屏蔽板的旋转控制器。

5.根据权利要求4所述的沉积设备，所述旋转控制器控制旋转驱动器，从而基于监视附于角度控制构件的沉积材料的量和沉积材料的排放角中的至少一个来旋转屏蔽板。

6.根据权利要求1所述的沉积设备，所述角度控制构件基于基底的尺寸以及基底与沉积源之间的距离中的至少一个来控制沉积材料的排放方向角。

7.根据权利要求1所述的沉积设备，所述沉积设备还包括设置在每个角度控制构件的一侧上并且控制角度控制构件与沉积源之间的距离的移动单元。

8.一种制造有机发光二极管显示器的方法，所述方法包括以下步骤：

设置基底，以面对沉积源，所述沉积源包括沿着第一方向布置并且排放沉积材料的喷嘴；

提供一对角度控制构件，每个角度控制构件设置在沉积源的对应侧上，所述每个角度控制构件包括围绕旋转轴设置并且控制沉积材料在沉积源的两侧上的排放方向角的多个屏蔽板；

将沉积材料排放到基底上，从而在基底上形成薄膜；

旋转角度控制构件的屏蔽板。

9.根据权利要求8所述的方法，所述方法还包括控制角度控制构件与沉积源之间的距离的步骤。

10.根据权利要求8所述的方法，每经过预定的时间段，角度控制构件的屏蔽板被周期性地旋转。

11.根据权利要求8所述的方法，沉积材料包括形成有机发射层的有机材料，所述薄膜为有机发射层。

12.根据权利要求8所述的方法，排放步骤包括加热沉积源中的沉积材料，从而将沉积材料排放到基底上。

13.根据权利要求8所述的方法，旋转步骤包括旋转旋转轴，从而将未设置在沉积材料的发射路径上的屏蔽板移动到沉积材料的发射路径中。

14.根据权利要求8所述的方法，所述方法还包括根据基底的尺寸以及基底与沉积源之间的距离中的至少一个控制沉积材料的排放方向角的步骤。

15.根据权利要求8所述的方法，所述方法还包括监视附于角度控制构件的沉积材料的量和沉积材料的排放角中的至少一个的步骤。

16.根据权利要求15所述的方法，角度控制构件的屏蔽板基于监视附于角度控制构件的沉积材料的量以及沉积材料的排放角中的至少一个而被旋转。