[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 201280025465.1 申请日: 2012-05-24
公开(公告)号: CN103563061A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 下边安雄;村山龙一;三户手启二 申请(专利权)人: 住友电木株式会社
主分类号: H01L21/52 分类号: H01L21/52
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 根据本发明,提供成品率优异的半导体装置。本发明的半导体装置(10)具备:基材(芯片焊盘)(2);半导体元件(3);和介于基材与半导体元件(3)之间,将两者粘接的粘接层(1)。在粘接层(1)中含有热传导性填料(8)。该半导体装置(10)在粘接层(1)中分散有热传导性填料(8),在将整个粘接层(1)中的热传导性填料(8)的含有率设为C、将粘接层(1)的从半导体元件(3)侧的界面起至深度2μm的区域1中的热传导性填料(8)的含有率设为C1、并将粘接层(1)的从基材(芯片焊盘)(2)侧的界面起至深度2μm的区域2中的热传导性填料(8)的含有率设为C2时,满足C1<C并且C2<C。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,具备:基材;半导体元件;和介于所述基材与所述半导体元件之间,将两者粘接的粘接层,在所述粘接层中分散有热传导性填料,在将整个所述粘接层中的所述热传导性填料的含有率设为C、将所述粘接层的从所述半导体元件侧的界面起至深度2μm的区域1中的所述热传导性填料的含有率设为C1、并将所述粘接层的从所述基材侧的界面起至深度2μm的区域2中的所述热传导性填料的含有率设为C2时,满足C1<C并且C2<C。
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