[发明专利]一种间断脉冲电镀Ni-W-纳米CeF3复合镀层的方法无效
| 申请号： | 201210453519.6 | 申请日： | 2012-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN103806055A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 刘茂见 | 申请（专利权）人： | 无锡三洲冷轧硅钢有限公司 |
| 主分类号： | C25D5/18 | 分类号： | C25D5/18;C25D15/00;C25D3/56 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 武春华 |
| 地址： | 214100 江苏省无锡*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种间断脉冲电镀Ni-W-纳米CeF3复合镀层的电镀方法，包括：间断脉冲电镀参数为：工作时间2-4ms，停止时间1-2ms，脉冲频率800-1200Hz，占空比0.1-0.3，平均电流密度0.5-2A/dm2。所述方法能够提供比直流电镀更高的硬度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 间断 脉冲 电镀 ni 纳米 cef sub 复合 镀层 方法 | ||
【主权项】：
一种间断脉冲电镀Ni‑W‑纳米CeF3复合镀层的电镀方法，包括：间断脉冲电镀参数为：工作时间2‑4ms，停止时间1‑2ms，脉冲频率800‑1200Hz，占空比0.1‑0.3，平均电流密度0.5‑2A/dm2。
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