[实用新型]一种Ni纳米线阵列太赫兹衰减器有效
| 申请号： | 201821166538.X | 申请日： | 2018-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN208705507U | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 郭海中;姚江峰;相文峰 | 申请（专利权）人： | 郑州大学;中国石油大学（北京） |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G02B1/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 徐宁;孙楠 |
| 地址： | 450001 河南省郑*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种Ni纳米线阵列太赫兹衰减器，其特征在于：其包括基底、有序排列在所述基底上的Ni纳米线层以及涂覆在所述Ni纳米线层上的保护层。所述Ni纳米线阵列层包括相互正交的若干Ni纳米线阵列层。各所述Ni纳米线阵列层均包括多组平行间隔排列的Ni纳米线阵列单元，且所述上层Ni纳米线阵列层中的各组Ni纳米线阵列单元均与所述下层Ni纳米线阵列层中的各组Ni纳米线阵列单元相正交。本实用新型可以广泛应用于太赫兹衰减器及其相关领域。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米线阵列 衰减器 本实用新型 纳米线层 基底 平行间隔排列 保护层 正交的 涂覆 下层 正交 上层 应用 | ||
【主权项】：
1.一种Ni纳米线阵列太赫兹衰减器，其特征在于：其包括基底、有序排列在所述基底上的Ni纳米线层以及涂覆在所述Ni纳米线层上的保护层。
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- 本发明专利公开了一种楔形倾斜狭缝长焦深等离激元透镜。该楔形倾斜狭缝长焦深等离激元透镜采用在平面金属薄膜上构建垂直均匀宽度的中心狭缝和对于中心狭缝左右对称的楔形倾斜狭缝所形成；所述透镜在横磁线偏光垂直入射条件下，能够实现长焦深的聚焦效果。在结构中，中心狭缝被选择为透镜对称轴，楔形倾斜狭缝对于中心狭缝对称的狭缝成对出现，在入射面端均相对于中心狭缝往外倾斜，越靠外的狭缝倾斜角度越大，狭缝入射端宽于出射端，对称的狭缝内壁倾角、外壁倾角和宽度均相同；该楔形倾斜狭缝金属薄膜透镜，实现了平面金属等离激元透镜的对于横磁线偏光的长焦深的聚焦效果。本发明的透镜结构紧凑，便于制备和实际中生产，在光学微操纵、光学微加工等领域有较好的应用前景。
- 一种红外低折射率光学薄膜-201822081932.X
- 蒲云体;马平;王刚;卢忠文;吕亮;张明骁;邱服民;乔曌;彭东旭 - 成都精密光学工程研究中心
- 2018-12-12 - 2019-09-06 - G02B5/00
- 本实用新型公开了一种红外低折射率光学薄膜，属于光学薄膜领域。所述红外低折射率光学薄膜通过有效的制备方法并采用稀土族元素氟化物YF3制备得到，得到的红外低折射率光学薄膜具有无定形结构的特征，较之单晶、多晶结构的薄膜具有更低的散射损耗；折射率系数在1.5μm为1.482与现有的中红外激光低折射率光学薄膜的折射率系数相当，具备同等的设计自由度；但是其表面粗糙度为1.477nm和聚集密度0.904都优于现有的中红外光学薄膜的表面粗糙度2nm左右和聚集密度0.8左右，降低了薄膜的损耗，提高了薄膜致密性；其在水吸收附近的2.9μm和6.1μm的透过率为60％和70％相比于常规工艺制备的中红外光学薄膜透过率高20％左右，改善了薄膜的吸潮情况。
- 光学膜-201580030888.6
- 马修·B·约翰逊;瑞安·T·法比克 - 3M创新有限公司
- 2015-06-04 - 2019-09-06 - G02B5/00
- 本发明描述了一种光学膜，所述光学膜包括热塑性双折射多层光学膜和邻近所述多层光学膜的外层设置的UV固化层。所述外层的厚度在约0.5微米至约1.0微米的范围内，并且所述UV固化层包括与所述外层相反的结构化表面。所述UV固化层的Tg小于约30℃并且铅笔硬度在2B至2H的范围内。
- 专利分类
