[发明专利]一种总剂量辐射加固的半导体存储器有效

专利信息
申请号: 201210155376.0 申请日: 2012-05-18
公开(公告)号: CN102709288A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 李平;王刚;李威;张大华;谢小东;李建军;范雪 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L27/112
代理公司: 成都惠迪专利事务所 51215 代理人: 刘勋
地址: 610000 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 一种总剂量辐射加固的半导体存储器,涉及集成电路。本发明包括存储单元和选择管,其特征在于,还包括一个第一晶体管,所述第一晶体管与存储单元、选择管串联,并且第一晶体管的栅氧化层厚度小于选择管。本发明的有益效果是,能够在原先半导体存储器的基础上,无需增加额外的掩膜和工艺步骤,以较小的芯片面积为代价,甚至无需牺牲芯片面积,通过串联上较薄栅氧化层厚度的MOS晶体管,即可提高半导体存储器的抗电离辐射能力。
搜索关键词: 一种 剂量 辐射 加固 半导体 存储器
【主权项】:
一种总剂量辐射加固的半导体存储器,包括存储单元和选择管,其特征在于,还包括一个第一晶体管,所述第一晶体管与存储单元、选择管串联,并且第一晶体管的栅氧化层厚度小于选择管。
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