[发明专利]具有半导体部件的层叠装置的组件无效
申请号: | 201210104893.5 | 申请日: | 2012-04-06 |
公开(公告)号: | CN102738086A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | J·维蒂 | 申请(专利权)人: | 意法半导体(格勒诺布尔2)公司 |
主分类号: | H01L21/98 | 分类号: | H01L21/98;H01L25/10;H01L23/31 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华;边海梅 |
地址: | 法国格*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本公开涉及一种具有半导体部件的层叠装置的组件,还涉及一种用于形成组件的方法,所述组件包括层叠在彼此之上的、具有半导体部件的第一装置和第二装置,所述半导体部件包括相对的导电球,所述方法包括步骤:a)在所述第一装置上形成至少一个树脂图形,所述树脂图形具有框架或者框架的一部分的形状,所述树脂图形以小于或者等于球的直径的一半的非零距离靠近至少一些所述导电球,并且所述树脂图形的高度大于球的高度;以及b)通过使用所述至少一个图形将所述第二装置的球引导朝向所述第一装置的对应的球,将所述第二装置键合至所述第一装置。 | ||
搜索关键词: | 具有 半导体 部件 层叠 装置 组件 | ||
【主权项】:
一种用于形成组件的方法,所述组件包括层叠在彼此之上的、具有半导体部件的第一装置(1)和第二装置(2),所述半导体部件包括相对的导电球(7,7’),所述方法包括以下步骤:a)在所述第一装置(1)上形成至少一个树脂图形(31),所述树脂图形具有框架或者框架的一部分的形状,所述树脂图形以小于或者等于所述球的直径的一半的非零距离靠近至少一些所述导电球(7),并且所述树脂图形的高度大于所述球的高度;以及b)通过使用所述至少一个图形(31)将所述第二装置的球(7’)引导朝向所述第一装置的对应的球(7),将所述第二装置(2)键合至所述第一装置(1)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造