[发明专利]具有MOM电容器的集成电路及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210041603.7 申请日: 2012-02-21
公开(公告)号: CN103094275A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 刘继文;王昭雄 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L23/522;H01L21/02
代理公司: 北京德恒律师事务所 11306 代理人: 陆鑫;房岭梅
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种集成电路,可以包括与诸如finFET的其他器件同时形成的MOM电容器。形成在基板上的介电层中具有第一半导体鳍片和第二半导体鳍片。去除鳍片的相应顶部以在介电层中形成相应的凹槽。第一电极和第二电极以及中间的介电层形成MOM电容器。本发明提供具有MOM电容器的集成电路及其制造方法。
搜索关键词: 具有 mom 电容器 集成电路 及其 制造 方法
【主权项】:
一种集成电路,包括:电容器,所述电容器包括:衬底;电容器介电层,位于所述衬底的主表面上,所述电容器介电层中具有第一凹槽和第二凹槽;第一半导体鳍片,延伸自所述衬底的主表面,位于所述第一凹槽内;第一电容器电极,位于所述第一凹槽内和所述第一半导体鳍片的顶上;第二半导体鳍片,延伸自所述衬底的所述主表面并位于所述第二凹槽内;以及第二电容器电极,位于所述第二凹槽内和所述第二半导体鳍片的顶上。
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