[发明专利]聚硅氧烷类组合物、固化物及光学器件有效
| 申请号： | 201180026405.7 | 申请日： | 2011-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN102918110A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 西山义隆;田中裕之;杉山智史;真锅贵雄 | 申请（专利权）人： | 株式会社钟化 |
| 主分类号： | C08L83/14 | 分类号： | C08L83/14;C08L83/07;C08K5/01;C08K5/54;C08G77/50;H01L33/56 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张平元;张永新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供具有高耐热性、耐光性且气体阻隔性优异的聚硅氧烷类组合物，本发明的聚硅氧烷类组合物含有利用具有氢化甲硅烷基的化合物(b)对含链烯基的多面体结构聚硅氧烷类化合物(a)进行改性而得到的多面体结构聚硅氧烷改性体(A)，以及在一分子内具有两个以上链烯基的有机聚硅氧烷(B)，其中，所述组合物固化后的透湿率为30g/m2/24小时以下，且所述成分(B)的有机聚硅氧烷为含芳基的有机聚硅氧烷(B1)，和/或所述组合物进一步含有在一分子内具有一个链烯基或氢化甲硅烷基的有机硅化合物(C1)或者在一分子内具有一个碳-碳双键的环状烯烃化合物(C2)作为成分(C)。 | ||
| 搜索关键词： | 聚硅氧烷类 组合 固化 光学 器件 | ||
【主权项】：
聚硅氧烷类组合物，其含有：利用具有氢化甲硅烷基的化合物(b)对含链烯基的多面体结构聚硅氧烷类化合物(a)进行改性而得到的多面体结构聚硅氧烷改性体(A)，以及在一分子内具有两个以上链烯基的有机聚硅氧烷(B)，其中，所述组合物固化后的透湿率为30g/m2/24小时以下，且该组合物满足以下条件：所述成分(B)的有机聚硅氧烷为含芳基的有机聚硅氧烷(B1)；和/或所述组合物进一步含有在一分子内具有一个链烯基或氢化甲硅烷基的有机硅化合物(C1)或者在一分子内具有一个碳‑碳双键的环状烯烃化合物(C2)作为成分(C)。
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