[发明专利]陶瓷材料、层叠体、半导体制造装置用构件及溅射靶材有效
| 申请号： | 201180004702.1 | 申请日： | 2011-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN102639464A | 公开（公告）日： | 2012-08-15 |
| 发明（设计）人： | 渡边守道;神藤明日美;胜田祐司;佐藤洋介;矶田佳范 | 申请（专利权）人： | 日本碍子株式会社 |
| 主分类号： | C04B35/581 | 分类号： | C04B35/581;C04B35/04;H01L21/3065;H01L21/31 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 徐申民;李晓 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的陶瓷材料以镁、铝、氧及氮为主成分，主相为使用CuKα线时的XRD波峰至少出现在2θ＝47～50°的镁-铝氮氧化物相。 | ||
| 搜索关键词： | 陶瓷材料 层叠 半导体 制造 装置 构件 溅射 | ||
【主权项】：
一种陶瓷材料，是以镁、铝、氧及氮为主成分的陶瓷材料，主相为使用CuKα线时的XRD波峰至少出现在2θ＝47～50°的镁‑铝氮氧化物相。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本碍子株式会社，未经日本碍子株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201180004702.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于三元材料前驱体生产的陈化釜
- 下一篇：一种化工反应罐中的多级搅拌桨
