[实用新型]连续沉积系统有效
| 申请号: | 201120207152.0 | 申请日: | 2011-06-20 |
| 公开(公告)号: | CN202181352U | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
| 发明(设计)人: | 户高良二;李一成;赵函一 | 申请(专利权)人: | 理想能源设备(上海)有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/52;H01L31/18 |
| 代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张静洁;徐雯琼 |
| 地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | 本实用新型公开了一种连续沉积系统,其包括依次设置的装载台、两个以上沉积腔以及卸载台;其中,所述装载台和所述卸载台分别用于装载和卸载大面积基板,所述装载台和所述卸载台中至少一个具有基板检测调节机构;所述基板检测调节机构包括检测机构和位置调节机构;所述检测机构检测所述基板位置;所述位置调节机构根据所述检测机构的检测结果调节所述基板相对所述装载台或卸载台的位置。本实用新型在当基板在被送入各腔室之前的装载台处以及当基板在各腔室内被处理完毕送出至卸载台处时,能及时检测并调整基板的位置,保证基板处于预设的理想位置,因此可有效避免基板因位置偏移而与腔室发生碰撞,导致损伤甚至损坏,提高生产效率和产品的优良率。 | ||
| 搜索关键词: | 连续 沉积 系统 | ||
【主权项】:
一种用于处理大面积基板的连续沉积系统,其包括依次设置的装载台(1)、两个以上沉积腔(5)以及卸载台(2),所述装载台(1)和所述卸载台(2)分别用于装载和卸载基板(11),其特征在于:所述装载台(1)和所述卸载台(2)中至少一个具有基板检测调节机构;所述基板检测调节机构包括检测机构(13)和位置调节机构(14);所述检测机构(13)检测所述基板(11)的位置; 所述位置调节机构(14)根据所述检测机构(13)的检测结果调节所述基板(11)相对所述装载台(1)或卸载台(2)的位置。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





