[实用新型]连续沉积系统有效
| 申请号: | 201120207152.0 | 申请日: | 2011-06-20 |
| 公开(公告)号: | CN202181352U | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
| 发明(设计)人: | 户高良二;李一成;赵函一 | 申请(专利权)人: | 理想能源设备(上海)有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/52;H01L31/18 |
| 代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张静洁;徐雯琼 |
| 地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 连续 沉积 系统 | ||
1.一种用于处理大面积基板的连续沉积系统,其包括依次设置的装载台(1)、两个以上沉积腔(5)以及卸载台(2),所述装载台(1)和所述卸载台(2)分别用于装载和卸载基板(11),其特征在于:所述装载台(1)和所述卸载台(2)中至少一个具有基板检测调节机构;
所述基板检测调节机构包括检测机构(13)和位置调节机构(14);
所述检测机构(13)检测所述基板(11)的位置;
所述位置调节机构(14)根据所述检测机构(13)的检测结果调节所述基板(11)相对所述装载台(1)或卸载台(2)的位置。
2.如权利要求1所述连续沉积系统,其特征在于,所述装载台(1)和所述卸载台(2)包括用于传输基板(11)的传输导轨、传输带、传输辊或传输滚子。
3.如权利要求1所述连续沉积系统,其特征在于,所述检测机构(13)包括至少两个位置检测器(131),所述位置检测器(131)设置在所述装载台(1)或卸载台(2)的同一侧,所述位置检测器(131)通过检测所述基板(11)的边缘到所述位置检测器(131)的距离或通过检测所述基板(11)上固定点的位置来确定所述基板(11)的位置。
4.如权利要求1所述连续沉积系统,其特征在于,所述检测机构(13)包括设置在所述装载台(1)或卸载台(2)两侧的位置检测器(131),其中至少一侧设置有至少两个位置检测器(131),所述位置检测器(131)通过检测所述基板(11)的边缘到所述位置检测器(131)的距离或通过检测所述基板(11)上固定点的位置来确定所述基板(11)的位置。
5.如权利要求3或4所述连续沉积系统,其特征在于,所述位置检测器(131)为红外测距装置或图像检测装置。
6.如权利要求3或4所述连续沉积系统,其特征在于,所述位置调节机构(14)包括多个位置调节器(141);在所述装载台(1)或卸载台(2)的两侧分别设置有至少两个位置调节器(141),所述位置调节器(141)用于驱动所述基板(11)调整位置。
7.如权利要求6所述连续沉积系统,其特征在于,所述位置调节器(141)包括推杆和驱动该推杆的汽缸或电机。
8.如权利要求1所述连续沉积系统,其特征在于,所述基板检测调节机构还包括一控制机构(15),所述控制机构(15)包括一处理器(151),以及与所述处理器(151)连接的一驱动控制器(152);其中,
所述处理器(151)与所述检测机构(13)连接并对所述检测机构(13)检测到的基板位置信息进行处理;
所述驱动控制器(152)与所述位置调节机构(14)连接,并根据所述处理器(151)的处理结果驱动所述位置调节机构(14)。
9.如权利要求1所述连续沉积系统,其特征在于,所述沉积腔(5)为低压化学气相沉积腔,所述连续沉积系统还包括二乙基锌源装置和水蒸气源装置,所述二乙基锌源装置和所述水蒸气源装置连接所述低压化学气相沉积腔,用于向所述低压化学气相沉积腔分别提供二乙基锌气体和水蒸气。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





