[发明专利]数组基板及其制作方法无效
| 申请号： | 201010275003.8 | 申请日： | 2010-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN101969045A | 公开（公告）日： | 2011-02-09 |
| 发明（设计）人： | 张锡明 | 申请（专利权）人： | 华映光电股份有限公司;中华映管股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/77 | 分类号： | H01L21/77;H01L27/12;H01L29/41;G02F1/1362;G02F1/1368 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 蔡学俊 |
| 地址： | 350015 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种数组基板，包含：一基板，基板上设有一薄膜晶体管包含一一汲极电极，一有机材料层覆盖基板和薄膜晶体管，一开口贯穿有机材料层并且汲极电极经由开口暴露出来，一无机材料层至少覆盖开口的侧壁与部分的有机材料层，并且汲极电极经由开口暴露出来以及一图案化透明画素电极层位于前述无机材料层上以及开口中并且接触汲极电极。 | ||
| 搜索关键词： | 数组 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种数组基板的制作方法，其特征在于，包含：提供一基板，该基板上设有一薄膜晶体管，该薄膜晶体管包含一闸极、一闸极介电层、一源极电极和一汲极电极；形成一有机材料层覆盖该基板和该薄膜晶体管；形成一开口于该有机材料层并且曝露出该汲极电极；形成一第一无机材料层覆盖该开口的侧壁及至少部分该有机材料层，且该第一无机材料层至少曝露出该汲极电极；以及形成一图案化透明画素电极层于该第一无机材料层上并且经由该开口接触该汲极电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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