[发明专利]放射线敏感性树脂组合物、以及层间绝缘膜和微透镜及它们的制备方法有效
| 申请号： | 200810130172.5 | 申请日： | 2008-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN101359174A | 公开（公告）日： | 2009-02-04 |
| 发明（设计）人： | 内池千浩;花村政晓;滨田谦一;饭岛孝浩 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/008 | 分类号： | G03F7/008;G03F7/00;C08F220/32;C08F4/04;C08F220/10;C08F212/08 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 熊玉兰;李平英 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及放射线敏感性树脂组合物，其含有[A]聚合物、和[B]1，2－二叠氮醌化合物，所述[A]聚合物具有如下基团：选自羧基和羧酸酐基的至少1种的基团、选自环氧乙基和氧杂环丁烷基的至少一种基团、和下述式(1)表示的n价基团，(式(1)中RI是亚甲基或碳原子数2～10的亚烷基或者烷基亚甲基，Y是单键、－CO－、－O－CO－*(其中，带有“*”的连接键与RI键合)或者－NHCO－*(其中，带有“*”的连接键与RI键合)，n是2～10的整数，X是可以具有1个或多个醚键的碳原子数2～70的n价烃基，“+”表示连接键)。 | ||
| 搜索关键词： | 放射线 敏感性 树脂 组合 以及 绝缘 透镜 它们 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有[A]聚合物、和[B]1，2-二叠氮醌化合物，所述[A]聚合物具有如下基团：选自羧基和羧酸酐基的至少1种基团，选自环氧乙基和氧杂环丁烷基的至少1种基团，和下述式(1)表示的n价基团，(式(1)中RI是亚甲基或碳原子数2～10的亚烷基或者烷基亚甲基，Y是单键、-CO-、-O-CO-*(其中，带有“*”的连接键与RI键合)或者-NHCO-*(其中，带有“*”的连接键与RI键合)，n是2～10的整数，X是可以具有1个或多个醚键的碳原子数2～70的n价烃基，或者n是3而X是下述式(2)表示的3价基团，(式(2)中，RII分别独立地表示亚甲基或碳原子数2～6的亚烷基，“*”分别表示连接键)“+”表示连接键)。
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- 森尾公隆 - 东京应化工业株式会社
- 2005-07-26 - 2006-03-08 - G03F7/008
- 本发明提供一种抗蚀图案的形成方法，其具有：(A)在基体(10)上形成光致抗蚀被膜的工序、以及(B)经过包含选择性曝光的光刻工序使所述光致抗蚀被膜形成为具有厚壁部r1和薄壁部r2的阶梯状抗蚀图案形状的工序，其特征在于，使用含有(a)通过凝胶渗透色谱法测量的聚苯乙烯换算重均分子量超过8000的碱溶性酚醛清漆树脂、(b)含萘醌二叠氮基化合物、以及(d)有机溶剂的正型光致抗蚀剂组合物，形成所述光致抗蚀被膜。由此，可以形成耐蚀刻性以及耐热性出色的阶梯状的抗蚀图案。
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