[发明专利]内埋半导体组件的封装工艺及封装结构有效
申请号: | 200810086150.3 | 申请日: | 2008-03-17 |
公开(公告)号: | CN101241868A | 公开(公告)日: | 2008-08-13 |
发明(设计)人: | 王建皓 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L23/538;H01L23/48 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 周长兴 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种内埋半导体组件的封装工艺及封装结构,由至少一绝缘层与基板相堆栈,并压合一第三金属层于绝缘层之上,以使半导体组件可内埋于绝缘层中。基板具有一基层、一第一线路层、一第二线路层以及贯通基层并电性连接第一线路层以及第二线路层的至少一第一导通结构。此外,第三金属层可经由图案化而形成具有多个第三接垫的第三线路层。 | ||
搜索关键词: | 半导体 组件 封装 工艺 结构 | ||
【主权项】:
1、一种内埋半导体组件的封装工艺,包括:提供一基板,该基板具有一基层、一第一金属层、一第二金属层以及贯通该基层并电性连接该第一金属层以及该第二金属层的至少一第一导通结构,该第一金属层位于该基层的一第一表面,而该第二金属层位于该基层的一第二表面;图案化该第一金属层,以形成具有多个第一接垫的一第一线路层;对该第一线路层、第二金属层以及该第一导通结构进行粗化处理,以形成一粗化层;配置一半导体组件于该第一线路层上,并与所述多个第一接垫电性连接;覆盖至少一绝缘层于该基层的该第一表面,并压合一第三金属层于该绝缘层上,以使该半导体组件内埋于该绝缘层中;形成多个贯通该绝缘层以及该第一线路层并电性连接该第二金属层以及该第三金属层的至少一第二导通结构;图案化该第二金属层,以形成具有多个第二接垫的一第二线路层;以及图案化该第三金属层,以形成具有多个第三接垫的一第三线路层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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