[发明专利]半导体元件有效
申请号: | 200710193224.9 | 申请日: | 2007-11-20 |
公开(公告)号: | CN101188238A | 公开(公告)日: | 2008-05-28 |
发明(设计)人: | 曾国权;丁国强;王铨中;蒋敏雄;白志阳 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/04 | 分类号: | H01L27/04;H01L23/522;H01L27/11;H01L27/105 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种新颖的系统单晶片结构、半导体元件及其制造方法。系统单芯片包括逻辑区、静态随机存取存储器区、及动态随机存取存储器区。动态随机存取存储器单元中的储存电容形成在金属-绝缘体-金属结构中的第一介电层中,其具有巨大的垂直表面积。形成在第一介电层的对接接点包括在静态随机存取存储器单元中接合至第一及第二导电区的底端部分与连接至第一金属层的垂直排列顶端部分。顶端部分具有实质上比底端部分更深的深度且实质上较小的尺寸。形成此系统单芯片结构不需增加复杂且有错误倾向的额外工艺于已知的CMOS工艺中,因此对整体系统单芯片的合格率的冲击很微小。 | ||
搜索关键词: | 半导体 元件 | ||
【主权项】:
1.一种半导体元件,包括:半导体衬底,具有第一导电区、第二导电区、及第三导电区;介电层,形成于该半导体衬底上;第一导电元件及第二导电元件,形成于该介电层的表面上;第一接点,形成于该介电层中,将该第一导电区连接至该第一导电元件;以及第二接点,形成于该介电层中,包括邻接该第二导电区及该第三导电区的底端部分及连接至该第二导电元件的顶端部分,其中该底端部分的尺寸实质上大于该顶端部分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710193224.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:在有接触或无接触交易中使用射频识别支付的系统和方法
- 下一篇:窗口模板
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的