[发明专利]互连及其形成方法有效

专利信息
申请号: 200710186782.2 申请日: 2007-11-16
公开(公告)号: CN101197347A 公开(公告)日: 2008-06-11
发明(设计)人: 格里塞尔达·博尼拉;克里斯托斯·D·迪米特拉科波洛斯;桑·V·古延;艾尔弗雷德·格里尔;萨特亚纳拉亚纳·V·妮塔;达里尔·D·雷斯泰诺;特里·A·斯普纳 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01L23/532 分类号: H01L23/532;H01L23/522;H01L21/768
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 张波
地址: 美国纽*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供了一种互连,其包括具有顶表面和下表面的铜导体,在所述金属导体的顶表面上形成帽盖。所述帽盖由膜的双重层叠或多重层叠形成,所述层叠膜包括紫外(UV)阻挡膜和扩散阻挡膜。可以通过中间膜分隔扩散阻挡膜和UV阻挡膜。
搜索关键词: 互连 及其 形成 方法
【主权项】:
1.一种互连,包括:金属导体,具有顶表面和下表面,以及形成于所述金属导体的所述顶表面上的帽盖,所述帽盖由层叠膜形成,所述层叠膜包括紫外UV阻挡膜和扩散阻挡膜。
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