[发明专利]影像感测器及半导体元件的形成方法有效

专利信息
申请号: 200710089515.3 申请日: 2007-03-27
公开(公告)号: CN101106144A 公开(公告)日: 2008-01-16
发明(设计)人: 蒋尚义;王中枢;伍寿国;杨敦年 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L21/822;H01L21/761
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种影像感测器及半导体元件的形成方法,特别涉及一种影像感测器,包括:一基底,其具有一前表面及一后表面;多个感测元件,形成于该基底的该前表面上,所述感测元件是用以接受入射至该后表面的光;以及一铝掺杂区,形成于该基底中,在水平方向位于相邻的感测元件之间,在垂直方向位于该后表面及所述感测元件之间。本发明所述的影像感测器及半导体元件的形成方法,由于掺杂铝的深隔离壁宽度窄且深度深,故其占据半导体基底较小的面积却又能有效的隔离元件。
搜索关键词: 影像 感测器 半导体 元件 形成 方法
【主权项】:
1.一种影像感测器,其特征在于,该影像感测器包括:一基底,其具有一前表面及一后表面;多个感测元件,形成于该基底的该前表面上,所述感测元件是用以接受入射至该后表面的光;以及一铝掺杂区,形成于该基底中,在水平方向位于相邻的感测元件之间,在垂直方向位于该后表面及所述感测元件之间。
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