[发明专利]具导电凸块的半导体装置及其制法无效
申请号: | 200710001580.6 | 申请日: | 2007-01-08 |
公开(公告)号: | CN101221913A | 公开(公告)日: | 2008-07-16 |
发明(设计)人: | 柯俊吉;黄建屏 | 申请(专利权)人: | 矽品精密工业股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L23/485 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 程伟;王锦阳 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种具导电凸块的半导体装置及其制法,主要是在设有焊垫及保护层的半导体基材上形成与该焊垫电性导接的第一金属层,并覆盖一外露出部分第一金属层的第二覆盖层,接着于该第二覆盖层上形成与该第一金属层外露部分电性导接的第二金属层,并覆盖一第三覆盖层,且令该第三覆盖层设有开孔以外露出部分第二金属层,从而于该开孔中的第二金属层上形成包含有金属柱及焊锡材料的导电凸块,藉以利用该些覆盖层及金属层提供缓冲效果,以避免现有形成于焊垫上的焊块底部金属层因直接承受金属柱所传递的应力(stress)作用而发生脱层问题。 | ||
搜索关键词: | 导电 半导体 装置 及其 制法 | ||
【主权项】:
1.一种具导电凸块的半导体装置的制法,包括:提供一表面设有焊垫及保护层的半导体基材,该保护层覆盖该半导体基材且外露出该焊垫;于该保护层上形成第一金属层,并令该第一金属层与外露于该保护层的焊垫电性连接;于该第一金属层及保护层上覆盖第二覆盖层,且令该第二覆盖层外露出部分第一金属层;于该第二覆盖层上形成第二金属层,并令该第二金属层与外露的第一金属层电性连接;于该第二金属层及第二覆盖层上覆盖第三覆盖层,且令该第三覆盖层形成有开孔,以外露出部分第二金属层;于外露出该第三覆盖层开孔的第二金属层上形成一金属柱;以及于该金属柱外表面形成焊锡材料。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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