[发明专利]钛、铝金属层叠膜蚀刻液组合物无效
| 申请号： | 200610121637.1 | 申请日： | 2006-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN101130870A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 清水寿和 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/16 | 分类号： | C23F1/16;C23F1/20;C23F1/26;H01L21/02 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种蚀刻液组合物，其可以将在玻璃等绝缘膜基板、硅基板和化合物半导体基板上通过溅射法所形成的含有由钛或以钛为主成分的合金所构成的层和由铝或以铝为主成分的合金所构成的层的金属层叠膜一起进行蚀刻，且不对底层的基板等造成损伤，并将锥角控制在30～90度。所述蚀刻液组合物含有氟化物和氧化剂，所述氟化物为选自氢氟酸的金属盐或铵盐、六氟硅酸、六氟硅酸的金属盐或铵盐、四氟硼酸、四氟硼酸的金属盐或铵盐中的至少1种。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 层叠 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻液组合物，其用于将含有由钛或以钛为主成分的合金所构成的层和由铝或以铝为主成分的合金所构成的层的金属层叠膜一起进行蚀刻，所述蚀刻液组合物含有氟化物和氧化剂，所述氟化物为选自氢氟酸的金属盐或铵盐、六氟硅酸、六氟硅酸的金属盐或铵盐、四氟硼酸、四氟硼酸的金属盐或铵盐中的至少1种。
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