[发明专利]灰色调掩模的缺陷校正方法无效

申请号：	200610092202.9	申请日：	2004-04-01
公开（公告）号：	CN1869810A	公开（公告）日：	2006-11-29
发明（设计）人：	中山宪治	申请（专利权）人：	HOYA株式会社
主分类号：	G03F1/08	分类号：	G03F1/08;G02F1/136;G02F1/1333;G03F7/20;H01L21/00
代理公司：	北京三友知识产权代理有限公司	代理人：	李辉
地址：	日本***	国省代码：	日本;JP
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摘要：	本发明提供一种灰色调掩模的缺陷校正方法。用于对灰色调掩模的灰色调部的缺陷进行校正，该灰色调掩模具有遮光部(1)、透光部(2)、以及成为形成了在使用灰色调掩模的曝光机的极限分辨率以下的遮光图形(3a、3b)的区域并以通过减少透过该区域的光的透光量来选择性地改变光致抗蚀膜的膜厚为目的的灰色调部(3)，其特征在于：当上述灰色调部发生黑缺陷时，通过对上述黑缺陷的全部区域或一部分区域或者包含黑缺陷的区域进行蚀刻来减少膜厚，以形成使上述灰色调部可达到与正常的灰色调部同等的灰色调效果的膜厚。由此可比较容易地对灰色调部进行高精度的校正。
搜索关键词：	色调缺陷校正方法
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【主权项】：

1.一种灰色调掩模的制造方法，该灰色调掩模具有：遮光部、透光部、以及灰色调部，该灰色调部为形成了在使用灰色调掩模的曝光机的极限分辨率以下的遮光图形的区域，并以减少透过该区域的光的透光量从而选择性地改变光致抗蚀膜的膜厚为目的，其特征在于：该灰色调掩模的制造方法包括灰色调掩模的校正工序，该校正工序为，当上述灰色调部发生黑缺陷时，通过聚焦离子束进行蚀刻，使上述黑缺陷的全部区域或一部分区域或者包含黑缺陷的区域的膜厚降低，以形成使上述灰色调部可达到与正常的灰色调部同等的灰色调效果的膜厚。

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发明人：菅原浩幸 -专利权人：吉奥马科技有限公司
申请日： 2007-11-06 - 公布日： 2009-09-30 - 主分类号： G03F1/08
摘要：本发明提供一种通过湿式蚀刻可高精度地形成微细图案的光掩模用基板、光掩模以及该光掩模的制造方法。一种光掩模用基板(2)，其具备透明基板(10)、具有半透射性的半透射层(20)、形成于该半透射层(20)上且对照射光实质上遮光的遮光层(33)，其中，半透射层(20)由氮化钛(TiN_x：在此，0＜x＜1.33)形成，该氮化钛与遮光层(33)相比，相对于蚀刻液(A)为不溶性或难溶性，并且相对于蚀刻液(B)为易溶性。另一方面，遮光层(33)由金属铬(Cr)形成，该金属铬(Cr)与半透射层(20)相比，相对于蚀刻液(A)为易溶性，并且相对于蚀刻液(B)为不溶性或难溶性。由于各层相对于蚀刻液的蚀刻耐性不同，故可不对其它层造成损伤地选择性地蚀刻半透射层(20)和遮光层(33)。

掩模坯体及转印掩模的制造方法-200780034381.3
发明人：桥本雅广 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2007-09-14 - 公布日： 2009-08-26 - 主分类号： G03F1/08
摘要：本发明提供制作半导体设计规则(DRAM hp65nm以下)的转印用掩模时，能够防止抗蚀剂图案的消失，能够防止图案缺陷的掩模坯体、及掩模。其特征在于，该掩模坯体具备用于在基板上成膜的掩模图案的薄膜、和在该薄膜的上方成膜的抗蚀剂膜，通过插入有与所述薄膜和所述抗蚀剂膜接合的附着层，在进行使所述抗蚀剂膜形成为图案的显影时，防止形成为图案的抗蚀剂膜的倒塌。

最小化CD蚀刻偏差的方法-200780029905.X
发明人：贾森·普卢姆霍夫;苏尼尔·斯里尼瓦桑;大卫·约翰逊;鲁塞尔·韦斯特曼 -专利权人：奥立孔美国公司
申请日： 2007-08-07 - 公布日： 2009-08-05 - 主分类号： G03F1/08
摘要：本发明提供一种用于在具有薄膜的光刻基板的等离子体蚀刻工艺期间改善临界尺寸性能的方法。使用第一组工艺条件将钝化膜沉积到光刻基板上。使用第二组工艺条件从光刻基板蚀刻沉积膜。使用第三组工艺条件蚀刻光刻基板的暴露表面。在光刻基板的等离子体工艺期间，监视光刻基板的临界尺寸性能，以确保通过调整光刻基板的沉积和等离子体蚀刻工艺而获得目标均匀性和特征宽度。

一种A型胶及采用该A型胶修补铬版白缺陷的方法-200810217297.1
发明人：王金木 -专利权人：清溢精密光电（深圳）有限公司
申请日： 2008-11-07 - 公布日： 2009-04-08 - 主分类号： G03F1/08
摘要：本发明涉及一种A型胶，包括下述重量份的原料：金属纳米阻光材料：58％～78％wt，固化剂：20％～40％wt，稀释剂：0.5％～2％wt，玻璃促进剂：0.1％～1％wt，所述金属纳米阻光材料为粉状的金、银、镍、锡或氧化铝中的任一种，所述固化剂为环氧树脂或酚醛树脂，所述稀释剂为甲苯、二甲苯、三甲苯、松节油或樟脑油中的任一种，所述玻璃促进剂为硅胶；还提供了一种采用上述A型胶修补铬版白缺陷的方法。本发明所提供的A型胶及采用该A型胶修补铬版白缺陷的方法，解决了油墨无法修补凹陷及断线、金属修补液修补后不耐弱碱性清洗液清洗以及使用CVD修补无法修补玻璃基板造成的白缺陷的问题，且保证了修补后的黏附力。

专利分类

G 物理

G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备

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[发明专利]灰色调掩模的缺陷校正方法无效

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