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[发明专利]聚碳酸酯树脂组合物-CN202080017079.2有效
发明人：大平洋二;首藤弘;田边诚一;一色英树;河合功治;金子恒太郎;金子信裕;矢下亚纪良;中村大介 -专利权人：帝人株式会社;三吉油脂株式会社
申请日： 2020-02-25 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： C08K5/101 文献下载
摘要：本发明提供一种聚碳酸酯树脂组合物，其可抑制特定的紫外线区域、即、被视为有害光的420nm附近的波长的透光率，同时维持高的总透光率，并且耐冲击强度、成型滞留稳定性、耐干热性优异。本公开的聚碳酸酯树脂组合物相对于粘均分子量为为21000～26000的聚碳酸酯树脂(A)100质量份含有0.1～1.5质量份的添加剂(B)，并且，作为上述添加剂(B)，含有0.2质量份以上的由下述式1表示的具有苯并三唑骨架的紫外线吸收剂(B1)，式1中，R1～R5各自独立地表示氢原子、碳原子数1～20的烃基和羟基中的任1种，并且，上述烃基中可以含有含氧基，R6～R9各自独立地表示氢原子或者由R－S－表示的含硫基中的任1种，并且，R6～R9的至少一个为由R－S－表示的含硫基，R为碳原子数1～24的烃基、或者氢原子可以被碳原子数1～18的烷基取代的碳原子数6～24的芳香族基团。
聚碳酸酯树脂组合

[发明专利]耐热性优异和长波长吸收优异的紫外线吸收剂-CN202080029473.8在审
发明人：金子信裕;中村大介;金子恒太郎;河合功治 -专利权人：三吉油脂株式会社
申请日： 2020-04-27 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： C09K3/00 文献下载
摘要：本发明提供一种紫外线吸收剂，其与现有的紫外线吸收剂相比，耐热性和加热分解时的臭气抑制及长波长的吸收特别优异，并且摩尔吸光系数高。包含具有以下式(I)或(II)表示的键合基团的2‑苯基苯并三唑衍生物的紫外线吸收剂：式(I)中，X表示为氮原子、氧原子或从酰胺基中除去了氢原子的残基，l表示为0或1的整数，Y1表示具有或不具有取代基的芳香族烃基，m在X为氮原子或从酰胺基中除去氢原子的残基的情况下表示为1、在X为氧原子的情况下为0，Y2表示为氢原子、具有或不具有取代基的脂肪族烃基、或具有或不具有取代基的芳香族烃基。式(II)中，Y3与氮原子N一起形成具有或不具有取代基的杂环。[化学式1][化学式2]
耐热性优异波长吸收紫外线吸收剂

[发明专利]相移掩膜的制造方法、相移掩膜及相移掩膜的制造装置-CN201480005329.5有效
发明人：望月圣;中村大介;影山景弘 -专利权人：爱发科成膜株式会社
申请日： 2014-04-17 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： G03F1/28 文献下载
摘要：使构成相移层的多级区域的最上层与其下的层相比，含氧量更多。据此，成为曝光光入射侧的最上层的反射率降低。因此，能够减少由相移掩膜反射的反射光，防止由反射光引起的图案形成精度的降低，从而能够实现微细且高精度的图案形成。
相移制造方法装置

[发明专利]相移掩膜及其制造方法-CN201380054682.8有效
发明人：望月圣;中村大介;影山景弘 -专利权人：爱发科成膜株式会社
申请日： 2013-12-19 - 公布日： 2020-01-07 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明的相移掩膜的制造方法包括在含有10.4％以下的氧化性气体的混合气体的气氛下对铬系材料的靶进行溅射的工序。
相移及其制造方法

[发明专利]相移掩膜的制造方法及相移掩膜-CN201480005621.7有效
发明人：望月圣;中村大介;小林良纪;影山景弘 -专利权人：爱发科成膜株式会社
申请日： 2014-04-17 - 公布日： 2019-08-13 - 主分类号： G03F1/28 文献下载
摘要：在相移层形成工序中，通过设定气氛气体中的氧化性气体的流量比，从而在透明基板(S)上将相移层(11b、11c、11d)形成为多级。然后，在相移图案的形成工序中，对所述相移层进行湿式蚀刻，以形成将所述相移层的厚度变化设定为多级的多级区域(B1bh、B1bi)。
相移制造方法

[发明专利]相移掩膜的制造方法-CN201380052684.3有效
发明人：影山景弘;望月圣;中村大介 -专利权人：爱发科成膜株式会社
申请日： 2013-12-19 - 公布日： 2019-06-28 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：相移掩膜的制造方法具有如下工序：形成具有规定的开口图案的第二掩膜(RP2)，以使表面及露出于图案开口的遮光层(13)被覆盖，并且使露出于图案开口的蚀刻终止层(12)和相移层(11)在遮光区域内不被覆盖而在相移区域内被覆盖。
相移及其制造方法

[发明专利]起重机运行辅助装置-CN201280077300.9有效
发明人：铃木理博;中村大介;贵岛贤次 -专利权人：东芝三菱电机产业系统株式会社
申请日： 2012-11-27 - 公布日： 2015-07-29 - 主分类号： B66C13/22 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种起重机运行辅助装置，即使在扫描型距离测量器产生死角的情况下，也能抑制操作效率的下降。本发明的起重机运行辅助装置具有：扫描型距离测量器，该扫描型距离测量器能够测量与位于悬吊集装箱且可在水平方向上移动的移动体的移动范围下方的物体之间的距离以及角度；以及物体高度分布数据生成单元，该物体高度分布数据生成单元基于通过扫描型距离测量器测得的信息，生成表示位于移动体的移动范围下方的物体的高度分布的数据即物体高度分布数据。物体高度分布数据生成单元在生成的物体高度分布数据中产生扫描型距离测量器的死角时，基于与死角范围有重叠的假想的集装箱存在范围中与所述扫描型距离测量器相距最远点的物体高度的数据，对死角范围的物体高度的数据进行修正。
起重机运行辅助装置

[发明专利]相移掩模坯料、相移掩模及其制造方法-CN201380002495.5在审
发明人：影山景弘;中村大介 -专利权人：爱发科成膜株式会社
申请日： 2013-06-05 - 公布日： 2015-03-25 - 主分类号： G03F1/29 文献下载
摘要：本发明提供一种适用于大批量制造边缘增强型的相移掩模的相移掩模坯料。所述相移掩模坯料（MB）具有：玻璃基板（S）；形成在玻璃基板表面上的、主要成分为Cr的相移层（11）；以从玻璃基板朝向相移层的方向为上，在相移层上形成的、以从Ni、Co、Fe、Ti、Si、Al、Nb、Mo、W及Hf中选出的至少一种的金属为主要成分的蚀刻阻挡层（12）；以及在蚀刻阻挡层上形成的、主要成分为Cr的遮光层（13）。
相移坯料及其制造方法

[发明专利]半色调掩模、半色调掩模坯料及半色调掩模的制造方法-CN201180062123.2有效
发明人： 中村大介;影山景弘 -专利权人：爱发科成膜株式会社
申请日： 2011-12-21 - 公布日： 2013-09-11 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明提供了一种在使用浓硫酸的洗净处理中可对刻蚀阻挡层的侧蚀进行抑制的半色调掩模。所述半色调掩模具有透光部(TA)、半透光部(HA)和遮光部(PA)。遮光部(PA)包括基材(S)、半透光层11、设置在半透光层上且由Cr或Cr的化合物形成的遮光层(13)以及设置在半透光层(11)和遮光层(13)之间的刻蚀阻挡层(12)。刻蚀阻挡层(12)含有第一元素、第二元素。所述第一元素由选自Mo和W构成的组中的至少一种元素构成，且具有6.4mol％以上且38.2mol％以下的组成比。所述第二元素由选自Zr、Nb、Hf和Ta构成的组中的至少一种元素构成。
色调坯料制造方法

[发明专利]相移掩膜的制造方法、平板显示器的制造方法和相移掩膜-CN201010215138.5有效
发明人：影山景弘;中村大介 -专利权人：爱发科成膜株式会社
申请日： 2010-06-29 - 公布日： 2011-01-05 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：本发明提供一种相移掩膜的制造方法、平板显示器的制造方法和相移掩膜，通过其可以形成细小而高精度的曝光图案。本发明的第一实施方式中所述的相移掩膜(1)具有相移层(13P1)，其可使任何一种波长在300nm以上500nm以下范围内的光产生180°的相位差。因此，将上述波长范围内的光用作进行曝光处理的光，由于在相移层处光的相位发生反转所以会形成光强度最小的区域，使曝光图案更加清楚。在混合有40％以上90％以下的氮化气体和10％以上35％以下的氧化气体的环境中，使由铬系材料制成的靶产生溅射而形成相移层(13P)。
相移制造方法平板显示器

[发明专利]一种制备丙烯酸的方法-CN200810091978.8有效
发明人：柚木弘己;谷本道雄;中村大介 -专利权人：株式会社日本触媒
申请日： 2000-05-26 - 公布日： 2008-12-24 - 主分类号： C07C57/055 文献下载
摘要：提供了一种用来制备丙烯酸的方法，是采用一种装填有催化剂的固定床管壳式反应器，通过丙烯醛或含丙烯醛气体与分子氧或含分子氧气体的气相催化氧化进行制备，该方法的特征在于，具有不同活性水平的多种催化剂是以自所述反应管的气体入口端至气体出口端的活性水平增加的方式装填在反应管中的，所述催化剂是通过改变其中碱金属的种类和/或含量而制得的。根据本发明的方法，不仅可提高丙烯酸的收率和生产能力，而且还可抑制催化剂层中过度的热量积聚，催化剂的受热退化也得到抑制，从而延长了催化剂的寿命。
一种制备丙烯酸方法

[发明专利]接触气相氧化用反应器以及使用其的丙烯酸制造方法-CN200710159667.6无效
发明人：谷本道雄;中村大介;箱崎伸幸 -专利权人：株式会社日本触媒
申请日： 2007-07-19 - 公布日： 2008-05-07 - 主分类号： C07C51/25 文献下载
摘要：本发明涉及接触气相氧化用反应器以及使用其的丙烯酸制造方法。在现有的由2个反应器组成的丙烯酸制造用接触气相氧化反应装置中，反应器和管道等设备的成本高，必需很大的设置床面积，并且，容易产生由于丙烯醛的自氧化所产生碳化物的堆积。另一方面，在现有的由1个反应器构成的反应装置中，不能对前段反应和后段反应中的气体组成分别独立地进行优化，此外，原料丙烯的所能使用的浓度由于爆炸危险而受到限制。作为用于解决这些问题的反应装置，根据本发明，提供了一种反应装置，其为由1个反应器组成的固定床多管式反应装置，其特征在于：该反应器内部被划分为第1反应带和第2反应带两个反应带，在这2个反应带之间，设置有具有从外部导入气体状物质的机构的空间部分。
接触氧化反应器以及使用丙烯酸制造方法

[发明专利]具有变速机构的舷外驱动器-CN200510114990.2有效
发明人： 中村大介;藤井勋;涌井健 -专利权人：雅马哈海洋动力株式会社
申请日： 2005-11-16 - 公布日： 2006-05-24 - 主分类号： B63H20/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种舷外驱动器，其包括具有输出轴的原动机。驱动轴与输出轴耦合。推进设备与驱动轴耦合。原动机旋转输出轴以通过驱动轴驱动推进设备。变速机构定位在输出轴和驱动轴之间。变速机构改变输出轴传递到驱动轴的转速。
具有变速机构驱动器

[发明专利]接触气相氧化反应-CN200410087016.7有效
发明人： 中村大介;谷本道雄 -专利权人：株式会社日本触媒
申请日： 2004-10-22 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： C07C45/32 文献下载
摘要：本发明提供接触气相氧化反应，该反应即使在更高的气体压力或原料气体浓度和更大的反应气体空间速度的反应条件下，也可以容易并且低成本地充分抑制热点部分的蓄热，在维持高收率的情况下可以长期地继续反应。本发明的接触气相氧化反应使用填充了催化剂的固定床多管式反应器，利用分子状氧或含有分子状氧的气体其特征在于：上述反应器中各反应管的催化剂填充层在管轴方向被分为多个反应带，上述催化剂的填充为在上述多个反应带的至少2个中其占有容积不同的填充，并且在上述多个反应带的至少1个中混合有惰性物质成型体。
接触氧化反应

[发明专利]催化剂的制备方法-CN03154967.5有效
发明人：柚木弘已;谷本道雄;中村大介 -专利权人：株式会社日本触媒
申请日： 2003-08-19 - 公布日： 2004-04-07 - 主分类号： B01J37/02 文献下载
摘要：本发明有效地进行催化剂成分对载体的负载，以便获得品质性能优良的催化剂。本发明提供一种使催化剂成分负载到颗粒状载体上的催化剂的制备方法，该方法是通过使装入含有催化剂成分的催化剂母体和载体的处理容器20旋转并且同时使其摇动，从而使催化剂成分负载到载体上。
催化剂制备方法

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