[发明专利]具有金/银/铜合金的填充金属的半导体封装有效

专利信息
申请号: 200480015893.1 申请日: 2004-05-19
公开(公告)号: CN1802740A 公开(公告)日: 2006-07-12
发明(设计)人: 乔舒亚·D·洛布辛格;迈克尔·J·沙恩;罗纳尔多·F·H·布罗萨斯 申请(专利权)人: 基奥塞拉美国股份有限公司
主分类号: H01L23/02 分类号: H01L23/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波;侯宇
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及一种半导体封装,在其上施与电压差,具有两个或更多的部件用填充金属连接其上。填充金属是固溶体结构,其上的金属成分是原子级弥散,可以由金、银和铜合金组成。填充金属的较好形式是60Au20Ag20Cu。根据本发明的这种填充金属具有银基填充金属的优点,而不发生最终导致半导体封装短路的银迁移。由于湿气渗入和温度的变化,当水凝结在半导体封装内形成连续层时,填充金属内的银不离子化,因此银堆积的形成和最终导致封装短路就不发生。
搜索关键词: 具有 铜合金 填充 金属 半导体 封装
【主权项】:
1、一种电子封装,包括至少两部分,适应于在两部分之间施与电压差,并在两者间配置填充合金,连接该两部分在一起,该填充合金由金、银和铜组成。
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