[发明专利]贴合半导体衬底及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200480015389.1 申请日: 2004-04-02
公开(公告)号: CN1894795A 公开(公告)日: 2007-01-10
发明(设计)人: 神山荣治;加藤健夫;朴在勤 申请(专利权)人: 株式会社SUMCO;汉阳大学产学协力团
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 孙秀武;邹雪梅
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 将离子注入后、贴合、通过热处理而剥离后的贴合衬底的活性层表面采用有蚀刻作用的溶液只蚀刻1nm~1μm,使最终的活性层厚度为200nm以下。使用SC-1液体。在蚀刻前后也可以实施抛光、氢退火、牺牲氧化。能使将该薄膜活性层的膜厚在整个表面均匀化,降低其表面粗糙度。
搜索关键词: 贴合 半导体 衬底 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种贴合衬底,其特征在于,以控制活性层厚度为目的,将剥离活性层用晶片的一部分而在支撑衬底上形成的活性层的表面采用具有蚀刻作用的溶液只蚀刻1nm~1μm,使最终活性层的厚度为200nm以下。
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