[发明专利]布线图形产生方法无效
申请号: | 200410068227.6 | 申请日: | 2004-08-25 |
公开(公告)号: | CN1591827A | 公开(公告)日: | 2005-03-09 |
发明(设计)人: | 工藤千秋 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | H01L21/82 | 分类号: | H01L21/82;H01L21/3205;H01L21/768 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 徐谦;叶恺东 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明能够在布线掩模图形的产生中,抑制将由单一最小线宽数据产生的布线图形在半导体装置等中使用而引起的布线的可靠性降低或制造成品率下降。在产生连接根据逻辑电路数据来配置的功能元件彼此的布线的掩模上的设计布线图形时,产生基于最小线宽数据的布线图形,同时,产生基于最小线间隔数据的布线图形,并产生在这两者中间配置新的布线边界的布线图形,通过将其作为最终布线图形来使用,就能够使布线图形宽度适度变宽,提高布线的可靠性,抑制制造成品率的下降。 | ||
搜索关键词: | 布线 图形 产生 方法 | ||
【主权项】:
1.一种布线图形产生方法,根据电路数据产生与连接多个元件间的布线对应的掩模设计的布线图形,其特征在于,具备:产生第一布线图形的步骤,该第一布线图形与相应于最小线宽的数据的线宽和从所述最小线宽决定的布线间隔的所述布线相对应;产生第二布线图形的步骤,该第二布线图形与相应于最小线间隔的数据的线间隔和从所述最小线间隔决定的线宽的所述布线相对应;以及以所述第一和第二布线图形为基础产生第三布线图形并将所述第三布线图形作为所述掩模设计的布线图形的步骤,该第三布线图形与具有所述第一和第二布线图形的中间的线宽以及中间的线间隔的所述布线相对应。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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