[发明专利]高亮度空间相干X射线源无效
| 申请号： | 03115809.9 | 申请日： | 2003-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN1441441A | 公开（公告）日： | 2003-09-10 |
| 发明（设计）人： | 韩申生;喻虹;高琛;罗震林 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G21G4/04 | 分类号： | G21G4/04 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
一种高亮度空间相干X射线源，包括处于一防辐射外壳内的X光光源和X射线空间相干增益腔，其特点是：所述的X光光源由电子束激发X光光源和毛细管X光聚焦透镜组成，毛细管X光聚焦透镜设置于电子束激发X光光源的出射窗口处；该X射线空间相干增益腔的入口处设有入射限孔光阑，该入射限孔光阑位于该毛细管X光透镜的后焦点处；该电子束激发X光光源、毛细管X光透镜、空间相干增益腔的入射限孔光阑和出射窗口同轴；该X射线空间相干增益腔的出射窗口的孔径D出大于入射限孔光阑的孔径D入；D入的选取范围是：1微米 |
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| 搜索关键词： | 亮度 空间 相干 射线 | ||
【主权项】：
1、一种高亮度空间相干X射线源，包括处于一防辐射外壳(4)内的X光光源(1)和X射线空间相干增益腔(2)，其特征在于：所述的X光光源(1)由电子束激发X光光源(5)和毛细管X光聚焦透镜(6)组成，毛细管X光聚焦透镜(6)设置在电子束激发X光光源(5)的出射窗口(501)处；所述X射线空间相干增益腔(2)的入口处设有入射限孔光阑(201)，该入射限孔光阑(201)位于毛细管X光透镜(6)的后焦点处；所述的电子束激发X光光源(5)、毛细管X光透镜(6)、空间相干增益腔(2)的入射限孔光阑(201)和出射窗口(202)同轴；所述X射线空间相干增益腔(2)的出射窗口(202)的孔径D出大于入射限孔光阑(201)的孔径D入；该入射限孔光阑(201)的通光孔径D入的选取范围为：1微米＜D入＜30微米。
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- 本发明属于放射性同位素技术领域，公开了85Kr源的制备及回收工艺。制备工艺包括以下步骤：(i)对85Kr源制备工艺的真空系统及源壳抽真空；(ii)向真空系统里充入85Kr气体；(iii)冷却源壳，85Kr气体进入源壳；(iv)将源壳封割、焊封、检漏。回收工艺包括以下步骤：(i)对废源进行检漏；(ii)对回收系统抽真空，将废源装入回收装置中并对回收装置进行抽真空；(iii)扎破源窗释放气体；(iv)冷却废源回收罐，85Kr气体回收至废源回收罐。该发明所提供的制备及回收工艺能够使制备的85Kr源体积小、活度高且废源回收彻底。
- 68Ga发生器-201110275294.5
- 康斯坦丁·哲诺斯科夫;托墨·尼古拉 - ITM同位素技术慕尼黑股份公司
- 2011-08-25 - 2012-05-09 - G21G4/04
- 本发明涉及一种68Ga发生器，其中其68Ge母核素通过三乙氧基苯基特异性附着至支持体，且持续衰变为68Ga，所述三乙氧基苯基通过连接物共价键合至支持体材料。
- 一种密封型伽马射线源的制备方法-201010185745.1
- 邓刚;遆永周;孟闯;华成武 - 河南省同新科技有限责任公司
- 2010-05-28 - 2010-10-20 - G21G4/04
- 本发明属于放射性测井技术领域，公开了一种放射性密度计中密封型伽马射线源的制备方法。将同位素以其化合物的水溶液状态转移入储源容器内并控制其中的同位素化合物水溶液总活度在30～70mCi之间，加入水溶性沉淀剂沉淀出含同位素的化合物，加热干燥后密封储源容器即制成密封型伽马射线源，其中所述同位素的半衰期小于60天，并且能够通过衰变放出一条能量在0.1～1.4Mev的伽马射线，同时这种衰变方式占该种同位素全部衰变的40％。本发明制备的密封型伽马射线源的伽马射线能量在测井常用的放射性密度计感知范围内，半衰期短，对环境污染小，可以直接替换放射性密度计上原有的137Cs密度源，同时生产工艺简单易行，原料易得，成本低，有很大的市场潜力。
- 放射源γ射线输出器-200810243564.2
- 吴晨;李彦;许亦清;汪建文;王红云;王卫国;张苏城 - 镇江市亿华系统集成有限公司;镇江市海达科技有限公司
- 2008-12-23 - 2009-05-20 - G21G4/04
- 本发明涉及利用γ射线进行工作的各类装置中所使用的放射源γ射线输出器。它包括有一个外壳，外壳内腔后部安置有放射源固定盒，外壳内腔前部安置有具有转轴的操作辊；在放射源固定盒上开有一个与操作辊转轴平行的放射源安置孔，在放射源安置孔中安置有放射源，放射源安置孔的后端由一个屏蔽柱塞封闭；操作辊可绕转轴转动，在操作辊上开有一个偏离转轴并轴向贯通的准直孔；在操作辊转动到特定位置时准直孔可对准放射源安置孔的前端孔口，同时准直孔的前端对准外壳前端射线输出口。本发明不仅结构紧凑、节省材料，并且有效地改善了放射源泄漏问题，大大提高了放射源γ射线输出器使用的安全性。
- 高亮度空间相干微焦点X射线源-200610023415.6
- 喻虹;韩申生;彭卫军;张帅 - 中国科学院上海光学精密机械研究所
- 2006-01-18 - 2006-09-13 - G21G4/04
- 一种高亮度空间相干微焦点X射线源，包括电子束产生及控制系统和位于防辐射外壳中的X射线产生腔两部分，1.所述的电子束产生及控制系统由电子束发生装置，电子束聚焦装置和残余电子束收集装置组成，所述的位于防辐射外壳中的X射线产生腔由入射窗，X射线透射靶，X射线出射窗构成。2.所述的电子束发生装置，电子束聚焦装置和残余电子束收集装置，以及X射线产生腔的入射窗，X射线透射靶，X射线出射窗同轴；本发明高亮度空间相干微焦点X射线源，具有普遍适用、高相干性、高亮度、低成本、体积小和稳定性好的特点。
- 专利分类
