[发明专利]多晶结构及其制造方法无效

专利信息
申请号: 02828667.7 申请日: 2002-04-04
公开(公告)号: CN1623188A 公开(公告)日: 2005-06-01
发明(设计)人: 向井良一 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: G11B5/738 分类号: G11B5/738;G11B5/65;G11B5/851;G11B5/66;H01F10/08
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 付建军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种多晶结构(24),包括在基片(23)的表面上延伸的基层(31)。细微构造的磁性晶粒(32)稀疏地存在于基层(31)的表面上。磁性晶粒(32)是由有序合金构成的。磁性晶粒(32)在基层(31)的表面上相互间隔。由于在磁性晶粒(32)中获得了足够的结晶磁性各向异性能量,因此磁化被可靠地保持在细微构造的磁性晶粒(32)中。另外,间隔被限定在相邻的磁性晶粒(32)之间。单个磁性晶粒(32)独立存在。在相邻的磁性晶粒(32)之间可靠地防止磁性相互作用。磁畴可被建立在单个磁性晶粒(32)中。
搜索关键词: 多晶 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种多晶结构,包括:基层;和在基层上相互间隔的磁性晶粒,所述磁性晶粒是由有序合金构成的。
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