[发明专利]磁记录介质有效
| 申请号： | 201780002195.5 | 申请日： | 2017-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN107735835B | 公开（公告）日： | 2019-09-27 |
| 发明（设计）人： | 内田真治;中田仁志;森谷友博;古田旭;岛津武仁 | 申请（专利权）人： | 富士电机株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/738 | 分类号： | G11B5/738;C23C14/06;C23C14/14;G11B5/65 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 温剑;张佳鑫 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供垂直磁记录介质，所述垂直磁记录介质使用了具有(002)取向的hcp结构的Ru种晶层，并具有包含适于垂直磁记录的(001)取向的L10型有序合金的磁记录层。本发明的磁记录介质依次包含基板、含Ru的第1种晶层、含ZnO的第2种晶层、含MgO的第3种晶层、含有序合金的磁记录层，第1种晶层具有(002)取向的六方最密堆积结构。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 | ||
【主权项】：
1.磁记录介质，其特征在于，依次包含基板、含Ru的第1种晶层、含ZnO的第2种晶层、含MgO的第3种晶层、含有序合金的磁记录层，其中，所述第1种晶层具有(002)取向的六方最密堆积结构。
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