[发明专利]互补式金属半导体影像传感器的结构及其制造方法有效
申请号: | 02140315.5 | 申请日: | 2002-06-25 |
公开(公告)号: | CN1399346A | 公开(公告)日: | 2003-02-26 |
发明(设计)人: | 陈重尧;林震宝;刘凤铭 | 申请(专利权)人: | 联华电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/14 | 分类号: | H01L27/14;H01L31/00;H01L21/82 |
代理公司: | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人: | 王学强 |
地址: | 台湾省新竹科学*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 一种互补式金氧半导体影像传感器的制造方法,此方法是在基底中形成隔离层,以将基底区隔为光二极管感测区以及晶体管元件区。接着,在晶体管元件区形成栅极结构之后,再于栅极结构两侧的晶体管元件区中形成源/漏极区,且同时于光二极管感测区中形成掺杂区。然后,在光二极管感测区上形成自对准绝缘层,再于基底上形成保护层。 | ||
搜索关键词: | 互补 金属 半导体 影像 传感器 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种互补式金氧半导体影像传感器的结构,其特征是,该传感器至少包括:一基底;一光二极管感测区,设置于该基底中;一晶体管元件区,设置于该基底中,且该光二极管感测区与该晶体管元件区以一隔离层区隔;一晶体管,设置于该晶体管元件区上,该晶体管包括一栅极氧化层、一栅极导体层、一间隙壁与一源/漏极区;一自对准绝缘层,设置于该光二极管感测区上;以及一保护层,设置于该基底上,且至少覆盖该光二极管感测区以及该晶体管元件区。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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