[发明专利]互补式金属半导体影像传感器的结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 02140315.5 申请日: 2002-06-25
公开(公告)号: CN1399346A 公开(公告)日: 2003-02-26
发明(设计)人: 陈重尧;林震宝;刘凤铭 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L27/14 分类号: H01L27/14;H01L31/00;H01L21/82
代理公司: 北京集佳专利商标事务所 代理人: 王学强
地址: 台湾省新竹科学*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种互补式金氧半导体影像传感器的制造方法,此方法是在基底中形成隔离层,以将基底区隔为光二极管感测区以及晶体管元件区。接着,在晶体管元件区形成栅极结构之后,再于栅极结构两侧的晶体管元件区中形成源/漏极区,且同时于光二极管感测区中形成掺杂区。然后,在光二极管感测区上形成自对准绝缘层,再于基底上形成保护层。
搜索关键词: 互补 金属 半导体 影像 传感器 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种互补式金氧半导体影像传感器的结构,其特征是,该传感器至少包括:一基底;一光二极管感测区,设置于该基底中;一晶体管元件区,设置于该基底中,且该光二极管感测区与该晶体管元件区以一隔离层区隔;一晶体管,设置于该晶体管元件区上,该晶体管包括一栅极氧化层、一栅极导体层、一间隙壁与一源/漏极区;一自对准绝缘层,设置于该光二极管感测区上;以及一保护层,设置于该基底上,且至少覆盖该光二极管感测区以及该晶体管元件区。
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