专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种MWT太阳电池背电场结构及其制造方法-CN201911044386.5有效
  • 黎剑骑;孙涌涛;许成德;王富强;楼诚侃 - 横店集团东磁股份有限公司
  • 2019-10-30 - 2023-05-19 - H01L31/0224
  • 本发明公开了一种MWT太阳电池背电场结构,包括从上到下依次叠加的正面氮化硅膜、二氧化硅膜、PN结、硅片、三氧化二铝膜和背面氮化硅膜,硅片正面设有正电极银栅线和贯穿孔电极正面,背面设有全铝背场、贯穿孔电极背面和均匀分布的背电极,全铝背场上设有铝栅线背场,铝栅线背场与背面贯穿孔电极之间设有贯穿孔隔离槽。一种MWT太阳电池背电场制造方法,包括以下步骤:激光打孔;制绒;扩散;掩膜印刷;刻蚀;退火;镀膜;背面激光开槽;丝网印刷;烧结。在MWT电池背面开创了全铝背场与铝栅线相结合设计的方式,在不影响转换效率的同时,降低了Al金属浆料的消耗,极大避免Al金属粉末残留影响贯穿孔电极,保证了MWT太阳电池的安全高效地持续运行。
  • 一种mwt太阳电池电场结构及其制造方法
  • [发明专利]一种区域性分层沉积扩散工艺-CN201910339128.3有效
  • 黎剑骑;孙涌涛;楼城侃;王富强 - 横店集团东磁股份有限公司
  • 2019-04-25 - 2021-08-20 - H01L21/225
  • 本发明涉及晶体硅太阳能电池技术领域,为解决现有PERC+LDSE电池片表面掺杂浓度过高、区域性扩散可控性弱、电池蓝光响应差、少子寿命低的问题,提供了一种区域性分层沉积扩散工艺,包括以下步骤:(1)硅片预处理;(2)预氧化;(3)低温低浓度磷源沉积;(4)高温中浓度磷源沉积;(5)形成PN结;(6)低温高浓度磷源沉积;(7)冷却,推出石英舟,将硅片取出。本发明采用区域性分层扩散控制,让硅片表面既有均匀的磷硅玻璃层,利于激光SE重掺杂,从而提高电池片的欧姆接触和良好的接触性能;又能使发射极区域有低的掺杂浓度和高质量的PN结,从而使电池片有优异的蓝光响应和高少子寿命的特点,最终提升电池片的转换效率。
  • 一种区域性分层沉积扩散工艺
  • [发明专利]ALD方式PERC电池降低污染和提升转换效率的方法-CN201911274189.2有效
  • 许成德;孙涌涛;黎剑骑 - 横店集团东磁股份有限公司
  • 2019-12-12 - 2021-06-18 - H01L31/18
  • 本发明涉及光伏电池技术领域,为解决传统ALD方式PERC电池EL测试存在发黑现象和转换率低的问题,提供了一种ALD方式PERC电池降低污染和提升转换效率的方法,包括以下步骤:(1)将镀好氧化铝薄膜的电池片进镀正面减反射薄膜炉管中;(2)炉管升温,气体抽干净,充氮气,调节炉管内压力;(3)完成电离气体制作成等离子体;(4)完成多层减反射薄膜沉积;(5)完成电池片正面减反射薄膜沉积。本发明利用高能量的等离子体轰击去除电池片正表面的氧化铝薄膜,使后续烧结工序正银浆能够很好的穿透电池片正面的减反射薄膜层,从而与硅片形成良好的欧姆接触,降低接触电阻,有利于效率提升,和改善电池片测试EL发黑比例。
  • ald方式perc电池降低污染提升转换效率方法
  • [实用新型]一种MWT太阳电池背电场结构-CN201921844807.8有效
  • 黎剑骑;孙涌涛;许成德;王富强;楼诚侃 - 横店集团东磁股份有限公司
  • 2019-10-30 - 2020-08-11 - H01L31/0224
  • 本实用新型公开了一种MWT太阳电池背电场结构,包括硅片,所述硅片上表面设有PN结,硅片表面覆盖二氧化硅膜,硅片表面依次电镀三氧化二铝膜和氮化硅膜,硅片上设有贯穿孔电极,硅片正面设有正电极银栅线,背面设有背场,所述背场包括全铝背场和铝栅线背场。该结构开创了全铝背场与铝栅线相结合设计的方式,在不影响转换效率的同时,降低了Al金属浆料的消耗量,减少了贯穿孔电极区域隔离槽外的Al背场的面积,很大程度上避免Al金属粉末残留沾污贯穿孔电极,导致电池反向电流大、并联电阻低和漏电比例高的问题。
  • 一种mwt太阳电池电场结构
  • [发明专利]一种PERC双面太阳电池湿法刻蚀工艺-CN201811038411.4有效
  • 黎剑骑;孙涌涛;任良为;王富强;彭兴 - 横店集团东磁股份有限公司
  • 2018-09-06 - 2020-06-05 - H01L31/18
  • 本发明涉及晶硅太阳电池制造技术领域,为解决传统湿法刻蚀后刻蚀面绒面不均匀,导致背面SiN颜色离散性大和转换效率低的问题,提供了一种PERC双面太阳电池湿法刻蚀工艺,包括以下步骤:(1)滴水形成水膜;(2)一次刻蚀;(3)纯水清洗;(4)二次刻蚀;(5)纯水清洗;(6)酸洗;(7)纯水清洗;(8)烘干。本发明对硅片背面分别进行了初次刻蚀和再次刻蚀,不仅去除了硅片背面和边缘的PN结以及硅片背面的多孔硅,还使得硅片背面绒面均匀性好,出绒率高,对太阳光的吸收好,最终使背面转换效率达到0.2%的提升,双面率可提升10%;背面绒面更均匀,使得背面镀膜后SiN颜色一致性好,背面颜色合格率从97%提升到99.5%,效果显著。
  • 一种perc双面太阳电池湿法刻蚀工艺

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