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[发明专利]基片处理装置-CN201810021832.X有效
发明人： 赤田光;桥本和也 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-01-10 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供使用简易的装置恰当地测定处理气体的浓度。本发明的疏水化处理装置(41)使用含有离子的处理气体对晶片(W)进行处理，其包括：用于收纳晶片(W)的处理容器(300)；对处理容器(300)的内部供给HMDS气体的气体供给部(320)；对处理容器(300)的内部进行排气的排气部(340)；和离子传感器(346)，其至少测定处理容器(300)的内部、气体供给部(320)的内部或排气部(340)的内部的气体中所含有的离子的数量。
处理装置

[发明专利]清扫装置和半导体制造系统-CN202110307176.1在审
发明人：宇都宫由典;赤田光 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-03-23 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： B08B9/035 文献下载
摘要：本发明提供能够实现清扫作业的缩短化和自动化的清扫装置和半导体制造系统。用于清扫半导体制造装置(2)的对象面的自主移动式的清扫装置(3)包括：主体(31)；吸附部(34)，其构成为在对象面为倾斜面的情况下，能够使主体(31)吸附在倾斜面；行驶部(33)，其构成为在主体(31)通过吸附部(34)被吸附于倾斜面的状态下能够使主体沿倾斜面行驶，并且包含设置于比主体靠行进方向前方处的履带；吸引部(32)，其吸引对象面的周边的气体；检测部，其检测(31)主体的周围的状况；以及控制部(38)，其基于检测部的检测结果控制行驶部(33)和吸附部(34)。
清扫装置半导体制造系统

[发明专利]容器收纳装置-CN201580051716.7有效
发明人：园田主税;宫原强;大川胜宏;宇都宫由典;赤田光;长谷部和久 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-09-17 - 公布日： 2020-08-14 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：收纳多个存积有半导体制造用的处理液的容器的容器收纳装置包括：载置容器的载置台；根据载置在载置台的容器内的处理液的液量进行升降的支承板；和根据支承板的升降相对于容器的相对位置发生变化的阻挡件。阻挡件在容器内的液量低于规定值的情况下，上升至阻碍容器从载置台移动的位置。
容器收纳装置

[发明专利]处理液供给系统、处理液供给装置和承载器保管装置-CN201880069562.8在审
发明人：桥本和也;赤田光 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-10-31 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明的处理液供给系统(1)包括处理液供给装置(10)和控制装置(100)，其中处理液供给装置(10)包括：收纳承载器(70)的承载器收纳部(12)；收纳从承载器(70)取出的处理液瓶(80)的瓶收纳部(13)；从处理液瓶(80)对基片处理装置(90)送出处理液的送液部(14)；和输送部(15)，控制装置(100)构成为能够执行如下步骤：控制输送部(15)以使得从承载器收纳部(12)的承载器(70)取出处理液瓶(80)并将其输送到瓶收纳部(13)的步骤；控制输送部(15)以使得对送液部(14)输送处理液瓶(80)的步骤；和控制输送部(15)以使得将处理液瓶(80)收纳在承载器收纳部(12)的承载器(70)的步骤。
处理供给系统装置承载保管

[发明专利]半导体制造装置的设置方法和设置系统以及存储介质-CN201880055143.9在审
发明人： 赤田光 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-08-29 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种通过在地板面上排列多个区块而构成的半导体制造装置(100)的设置方法，其包括：输送步骤，将第2区块(3)输送到以第1区块(2)为基准的规定区域中；移动装置安装步骤，将多个移动装置(300)安装在第2区块(3)的规定部位；面内调整步骤，基于规定面内的第2区块(3)相对于目标位置的位置信息，使多个移动装置(300)的支承部同步移动，来调整规定面内的第2区块(3)的位置；高度调整步骤，基于高度方向上的第2区块(3)相对于目标位置的位置信息，使多个移动装置(300)的支承部同步移动，来调整第2区块(3)的高度位置；和倾斜度调整步骤，基于第2区块(3)的倾斜度的信息，使多个移动装置(300)的支承部单独移动，来调整第2区块(3)的倾斜度。
半导体制造装置设置方法系统以及存储介质

[实用新型]基板处理装置-CN201822025402.3有效
发明人： 赤田光 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-12-04 - 公布日： 2019-09-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种基板处理装置。抑制输送时的基板处理装置的高度，且容易地设置输送后的基板处理装置。处理晶圆的基板处理装置具备：装置主体(2)，其对晶圆实施预定的处理；壳体(400)，其收容预定零部件，且相对于装置主体(2)的顶面(2a)拆装自由；插头部(410)，其设置于壳体(400)，且与预定零部件连接起来；插座部(310)，其设置于顶面(2a)，且与插头部(410)嵌合；引导部(300)，其设置于顶面(2a)，且用于使壳体(400)向X方向正方向移动；以及连接辅助机构，其使壳体(400)向X方向正方向移动，同时使插头部(410)和插座部(310)嵌合。
基板处理装置壳体插头部顶面方向移动装置主体插座部晶圆嵌合本实用新型零部件连接拆装自由连接辅助收容零部件

[发明专利]基板处理装置与其设置方法以及计算机存储介质-CN201811474326.2在审
发明人： 赤田光 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-12-04 - 公布日： 2019-07-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置与其设置方法以及计算机存储介质。抑制输送时的基板处理装置的高度，且容易地设置输送后的基板处理装置。处理晶圆的基板处理装置具备：装置主体(2)，其对晶圆实施预定的处理；壳体(400)，其收容预定零部件，且相对于装置主体(2)的顶面(2a)拆装自由；插头部(410)，其设置于壳体(400)，且与预定零部件连接起来；插座部(310)，其设置于顶面(2a)，且与插头部(410)嵌合；引导部(300)，其设置于顶面(2a)，且用于使壳体(400)向X方向正方向移动；以及连接辅助机构，其使壳体(400)向X方向正方向移动，同时使插头部(410)和插座部(310)嵌合。
基板处理装置壳体插头部顶面计算机存储介质方向移动装置主体插座部晶圆嵌合零部件连接拆装自由连接辅助收容零部件

[发明专利]基板处理装置的数据取得方法和传感器用基板-CN201310250020.X有效
发明人： 赤田光 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2013-06-21 - 公布日： 2017-08-01 - 主分类号： G01P13/02 文献下载
摘要：即使传感器用基板的能够配置传感器的区域受到限制，也能够高精度地检测基板表面的多个测定区域的气流的风向。为了取得基板的表面的第一和第二测定区域中的上述风向的数据，将传感器用基板以第一朝向和第二朝向载置于上述载置部，其中，上述传感器用基板上，包括用于取得气流的矢量数据的第一传感器和第二传感器的传感器对设置在从上述传感器用基板的表面的中央部观察时彼此不同的距离。上述第一测定区域的位置和第二测定区域的位置在上述基板在中心部周围错开。并且，将由构成同一传感器对的第一传感器和第二传感器取得的气流的矢量基于按照每对传感器对预先设定的基点进行合成，计算上述第一测定区域和第二测定区域中来自各基点的风向。
处理装置数据取得方法传感器用

[发明专利]基板处理装置的数据取得方法和传感器用基板-CN201180027092.7有效
发明人： 赤田光 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-05-31 - 公布日： 2013-02-13 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：提供一种使用传感器用基板有效且高精度地取得基板处理装置的处理组件相关的数据的方法。该方法，包括：利用上述第一保持部件保持传感器用基板的工序，上述感器用基板具备用于取得与处理组件相关数据的传感器部、和包括用于向上述传感器部供给电力的能够充电的蓄电部的第一电源部；接着，使得上述第一保持部件前进、将上述传感器用基板交接至处理组件的工序；然后，通过上述传感器用基板的上述传感器部取得与上述处理组件相关的数据的工序；上述第一保持部件从上述处理组件接收充电的电力已被消耗的上述传感器用基板并后退，在此状态下，通过与上述基台共同移动的第二电源部以非接触的方式对上述传感器用基板的上述第一电源部充电的工序。
处理装置数据取得方法传感器用

[发明专利]基板处理装置的数据取得方法和传感器用基板-CN201210228600.4有效
发明人： 赤田光 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-07-02 - 公布日： 2013-01-02 - 主分类号： G01P5/12 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置的数据取得方法和传感器用基板，能够取得基板面内的各部分的风向的数据。实施以下步骤求得基板的面内的风向的分布：将在表面设置有用来取得气流的矢量数据的第1传感器和第2传感器组成的多个传感器对的传感器用基板载置于载置部的步骤；利用各个第1传感器取得第1直线方向上的气流的矢量数据的步骤；利用各个第2传感器取得相对于所述第1直线方向倾斜设定的第2直线方向上的气流的矢量数据的步骤；和根据预先设定的基点将利用构成相同的传感器对的第1传感器和第2传感器分别取得的气流的矢量合成，对来自各个基点的风向进行运算的步骤。
处理装置数据取得方法传感器用

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